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德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第8年

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  • NRE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)

    NRE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng):自動(dòng)上下載片,帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果??蓪?shí)...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:35:44 對(duì)比
    NRE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)
  • NDR-4000(M)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕

    NDR-4000(M)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕:是帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng),帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪分子泵,可以使得工藝...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:35:13 對(duì)比
    NDR-4000(M)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕
  • NDR-4000(A)全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕

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    NDR-4000(A)全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕
  • NRE-4000(ICPM)ICP刻蝕系統(tǒng)

    NRE-4000(ICPM)ICP刻蝕系統(tǒng):是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果??蓪?shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工...

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    NRE-4000(ICPM)ICP刻蝕系統(tǒng)
  • NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)

    NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng):如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:33:36 對(duì)比
    NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
  • NIE-3500(R)RIBE反應(yīng)離子束刻蝕

    NIE-3500(R)RIBE反應(yīng)離子束刻蝕:可以用于光柵刻蝕,SiO2二氧化硅、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外,還可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。系統(tǒng)...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:33:06 對(duì)比
    NIE-3500(R)RIBE反應(yīng)離子束刻蝕
  • NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕

    NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕:是一款手動(dòng)放片/取片,但工藝過程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:32:34 對(duì)比
    NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕
  • NIE-3500(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕

    NIE-3500(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕:是一款自動(dòng)放片/取片,并且工藝過程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理...

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    NIE-3500(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕
  • NIE-3000IBE離子束刻蝕

    NIE-3000IBE離子束刻蝕:是一款手動(dòng)放片/取片,但工藝過程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:31:37 對(duì)比
    NIE-3000IBE離子束刻蝕
  • NIE-4000(M)IBE離子束刻蝕

    NIE-4000(M)IBE離子束刻蝕:如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常...

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    NIE-4000(M)IBE離子束刻蝕
  • NIE-4000(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕

    NIE-4000(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕:如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的...

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    NIE-4000(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕
  • NIM-4000(A)全自動(dòng)離子銑刻蝕

    NIM-4000(A)全自動(dòng)離子銑刻蝕:利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,剝離加工各種幾何圖形,通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束,可對(duì)固體材料濺射刻蝕,對(duì)固體器件進(jìn)...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:29:46 對(duì)比
    NIM-4000(A)全自動(dòng)離子銑刻蝕
  • NIM-4000(M)離子銑系統(tǒng)

    NIM-4000(M)離子銑系統(tǒng):利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,剝離加工各種幾何圖形,通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束,可對(duì)固體材料濺射刻蝕,對(duì)固體器件進(jìn)行微細(xì)...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:29:13 對(duì)比
    NIM-4000(M)離子銑系統(tǒng)
  • NRE-4000RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    NRE-4000RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī):提供PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:28:35 對(duì)比
    NRE-4000RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
  • NPC-3500(A)全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)

    NPC-3500(A)全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī):NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠...

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    NPC-3500(A)全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)
  • NPC-3500(M)等離子刻蝕機(jī)

    NPC-3500(M)等離子刻蝕機(jī):NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到...

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    NPC-3500(M)等離子刻蝕機(jī)
  • NPC-4000(A)全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)

    NPC-4000(A)全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī):NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠...

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    NPC-4000(A)全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)
  • NPC-4000(M)等離子刻蝕機(jī)

    NPC-4000(M)等離子刻蝕機(jī):NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到...

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    NPC-4000(M)等離子刻蝕機(jī)
  • NIE-4000(R)RIBE反應(yīng)離子束刻蝕

    NIE-4000(R)RIBE反應(yīng)離子束刻蝕:如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的...

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  • NRE-4000(A)全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕

    NRE-4000(A)全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕:獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:06:54 對(duì)比
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