您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)! 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
NRE-4000(ICPA)全自動ICP刻蝕系統(tǒng):自動上下載片,帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實...
NDR-4000(M)DRIE深反應離子刻蝕:是帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統(tǒng),帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪分子泵,可以使得工藝...
NDR-4000(A)全自動DRIE深反應離子刻蝕:全自動上下載片,帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統(tǒng),帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪...
NRE-4000(ICPM)ICP刻蝕系統(tǒng):是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工...
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業(yè)自行提供,信息內(nèi)容的真實性、準確性和合法性由相關企業(yè)負責,化工儀器網(wǎng)對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示:為規(guī)避購買風險,建議您在購買產(chǎn)品前務必確認供應商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。