-Filmetrics膜厚測(cè)量?jī)x：以F20平臺(tái)為基礎(chǔ)所發(fā)展的F10-HC薄膜測(cè)量系統(tǒng)，能夠快速的分析薄膜 的反射光譜資料并提供測(cè)量厚度，加上F10-HC軟件的模擬演算法的設(shè)計(jì)，能夠在厚膜中測(cè)量單層與多層（例如：底漆或硬涂層等）。

F10-HC薄膜厚度測(cè)量?jī)x

 

有價(jià)格優(yōu)勢(shì)的薄膜測(cè)量系統(tǒng)

以F20平臺(tái)為基礎(chǔ)所發(fā)展的F10-HC薄膜測(cè)量系統(tǒng)，能夠快速的分析薄膜 的反射光譜資料并提供測(cè)量厚度，加上F10-HC軟件的模擬演算法的設(shè)計(jì)，能夠在厚膜中測(cè)量單層與多層(例如：底漆或硬涂層等)。

簡(jiǎn)易操作界面

現(xiàn)在，具有新樣板模式功能的F10-HC將更容易使用，這個(gè)功能允許用戶匯入樣品的影像(請(qǐng)參考下頁(yè))，并直接在影像上定義測(cè)量位置。系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)通知使用者本次測(cè)量結(jié)果是否有效，并將測(cè)量的結(jié)果顯示在匯入的影像上讓用戶分析。

不需要手動(dòng)基準(zhǔn)校正

F10-HC現(xiàn)在能夠執(zhí)行自動(dòng)化基準(zhǔn)矯正以及設(shè)置自己的積分時(shí)間這個(gè)創(chuàng)新的方法不需要頻繁的執(zhí)行基準(zhǔn)矯正就可以讓使用者立即的執(zhí)行樣本的測(cè)量。

背面反射干擾

背面反射干擾對(duì)厚度測(cè)量而言是一個(gè)光學(xué)技術(shù)的挑戰(zhàn)，具有F10-HC系統(tǒng)的接觸式探頭能將背面反射干擾的影響小化，使用者能以較高的度來(lái)測(cè)量涂層厚度。

選擇Filmetrics的優(yōu)勢(shì)

• 桌面式薄膜厚度測(cè)量

• 24小時(shí)電話，郵件和在線支持

• 所有系統(tǒng)皆使用直觀的標(biāo)準(zhǔn)分析軟件

附 加 特 性

• 嵌入式在線診斷方式

• 免費(fèi)離線分析軟件

• 精細(xì)的歷史數(shù)據(jù)功能，幫助用戶有效地存儲(chǔ)，重現(xiàn)與繪制測(cè)試結(jié)果