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L2001-英國Ossila Spin Processor
  • L2001-英國Ossila Spin Processor

貨物所在地:北京北京市

更新時間:2024-06-10 21:00:07

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英國Ossila Spin Processor,操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果??蓪Υ笮〔煌?guī)格的基材都可進行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到完美的旋涂效果。不會出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯

英國Ossila Spin Processor

技術性能

  • 可在手套箱和通風廚內使用,基座面積僅為22.5x17cm。
  • 無需真空泵、充氮氣,節(jié)省保養(yǎng)維護費用。
  • 創(chuàng)新設計非真空卡盤式吸盤,基材只需放置在卡盤式旋涂托盤適當位置,無需抽真空,就能達到完美的旋涂效果。
  • 耐酸堿防腐蝕FEP覆膜操作界面,堅固的不銹鋼外殼,鋼化的玻璃蓋和耐酸堿防腐蝕的襯墊和聚丙烯材質旋涂托盤,使得在各種苛刻條件下仍能保證儀器正常運行。
  • 采用液晶顯示+按鍵操作控制界面。智能程序化控制,10個用戶自定義協(xié)議,每個協(xié)議下可設置10個程序,每個程序多50個步驟。
  • 內置水平校準裝置,大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。
  • 電磁安全開關,蓋子打開卡盤停止,保證運行安全。
  • 轉速穩(wěn)定性<2%。
  • 轉速120-6000rpm。
  • 定時器1-1000秒。
  • 電源DC24V、2A, 使用100-240V 50/60Hz電源適配器。
  • 尺寸220x170x132mm。
  • 左:普通旋涂機上有真空密封環(huán)形印跡     右:Ossila非真空式旋涂效果

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