勻膠旋涂儀通過在片材保持器上產(chǎn)生負壓來吸收待旋涂在片材固定器上的基材，并且膠滴到基材表面上。離心力通過精確調節(jié)電機的轉速而改變。同時，膠水流由滴膠裝置控制，以達到薄膜制備所需的厚度。此外，膜厚度還取決于環(huán)境因素，如旋涂時間、膠水粘度、殘余涂層溫度和濕度。勻膠旋涂儀廣泛應用于I砸EMS微加工，生物，材料等領域，它可以用來制備厚度小于10納米薄膜。也常應用在約1-100微米厚光刻膠沉積層的光刻工藝中。在使用過程中勻膠工藝常見問題有：
1、表面出現(xiàn)氣泡可能原因：滴膠時膠中帶有氣泡；噴嘴*端切囗有問題或帶刺問題
2、四周呈現(xiàn)放射狀條紋可能原因：膠液噴射速度過高；設備排氣速度過高；膠涂覆前靜止時間過長；勻膠機轉速或加速度設置過高；片子表片留有小顆粒膠中有顆粒
3、中心出現(xiàn)漩渦圖案可能原因：設備排氣速度過高；噴膠時膠液偏離襯底中心；旋圖時間過長；加速度過高
4、中心出現(xiàn)圓暈可能原因：不合適的托盤，噴嘴偏離襯底中心
5、膠液未涂滿襯底可能原因：給膠量不足；不合適的勻膠加速度
6、出現(xiàn)針孔現(xiàn)象可能原因：空氣中粉塵；光刻膠內(nèi)存在顆?；驓馀?；襯底上存在顆粒
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