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    Plasma 清洗機(jī)是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

    在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等體子體轟被清洗產(chǎn)品面．以達(dá)到清洗目的．

    我們在長期從事等離子體應(yīng)用技術(shù)研究和設(shè)備研制的基礎(chǔ)上， Plasma 清洗機(jī)充分借鑒歐美的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外著名研究機(jī)構(gòu)的技術(shù)合作，開發(fā)出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的電容耦合放電、電感耦合放電和遠(yuǎn)區(qū)等離子放電等多種放電類型的產(chǎn)品。特色鮮明的處理腔體形狀和電極結(jié)構(gòu)可以滿足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。