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技術(shù)參數(shù)

1 近場掃描光學(xué)顯微鏡NSOM操作模式: 透射模式，反射模式，收集模式，照明模式

2 原子力顯微鏡AFM操作模式: 敲擊模式，接觸模式選配，所有探針或樣品掃描的AFM操作模式

3 微分干涉對比DIC : 反射和透射

4 折射率成像Refractive-Index Profiling: 反射和透射

5 在線遠(yuǎn)場共聚焦和拉曼及熒光光譜成像: 反射和透射，針對選擇性拉曼散射超薄膜的探針增強(qiáng)拉曼散射

6 熱傳導(dǎo)及擴(kuò)展電阻成像: 接觸模式，敲擊模式，音叉反饋模式無反饋激光引入干擾信號,選配；熱探針可作為納米加熱器使用，納米熱分析、納米相轉(zhuǎn)變等應(yīng)用


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SPM掃描頭規(guī)格
1 樣品掃描器：壓電材料制薄片掃描器 3D Flat Scanner™；厚度為7毫米

2 SPM掃描范圍： 樣品掃描，zui大100 microns XYZ

3 掃描分辨率： < 0.005 nm Z
< 0.015 nm XY
< 0.002 nm XY 低電壓模式

4 粗調(diào)定位范圍：6毫米

5 反饋機(jī)制：懸臂梁光束反彈反饋，音叉反饋選配

6 樣品尺寸：標(biāo)準(zhǔn)配置下,直徑zui大至16毫米；正置顯微鏡下使用,直徑zui大至34毫米 特殊樣品形狀：如豎直樣品進(jìn)行邊緣成像等

7 探針：各種針尖外露的玻璃探針，各種常規(guī)懸臂梁硅探針均可使用


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成像分辨率1 遠(yuǎn)場： 受光衍射幾何限制

2 光學(xué)： 500納米

3 共聚焦： 200納米

4 近場掃描光學(xué)： 100納米，條件下可達(dá)到50納米由探針孔徑?jīng)Q定

5 形貌： Z向噪聲0.05納米 rms；XY橫向分辨率：由針尖直徑和樣品的卷積決定

6 熱成像： 100納米起，溫度靈敏度0.01ºC，300 ºC或更高由樣品決定

7 電阻成像： 25納米