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C21906-近場掃描光學(xué)顯微鏡
  • C21906-近場掃描光學(xué)顯微鏡

地: 以色列

更新時間:2024-08-20 15:38:14

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近場掃描光學(xué)顯微鏡NSOM也習(xí)慣稱為掃描近場光學(xué)顯微鏡SNOM,是用于納米材料表征*可獲得優(yōu)于光波長分辨率的手段。通常近場掃描光學(xué)顯微鏡與原子力顯微鏡AFM結(jié)合使用,因此近場掃描光學(xué)顯微鏡可以獲得材料光學(xué)與形貌相關(guān)的信息。近場掃描光學(xué)顯微鏡通??梢垣@得以下信息: * 反射率的改變 * 透過率的改變 * 折射率、極化、樣品材料的改變 * 材料局部應(yīng)力的改變引起光學(xué)性質(zhì)改變 * 材料磁的性質(zhì)改變引起光學(xué)性質(zhì)改變 * 分子熒光 * 拉曼遷移、SHG或其他效應(yīng)引起的分子激勵 *

技術(shù)參數(shù)

1 近場掃描光學(xué)顯微鏡NSOM操作模式: 透射模式,反射模式,收集模式,照明模式

2 原子力顯微鏡AFM操作模式: 敲擊模式,接觸模式選配,所有探針或樣品掃描的AFM操作模式

3 微分干涉對比DIC : 反射和透射

4 折射率成像Refractive-Index Profiling: 反射和透射

5 在線遠場共聚焦和拉曼及熒光光譜成像: 反射和透射,針對選擇性拉曼散射超薄膜的探針增強拉曼散射

6 熱傳導(dǎo)及擴展電阻成像: 接觸模式,敲擊模式,音叉反饋模式無反饋激光引入干擾信號,選配;熱探針可作為納米加熱器使用,納米熱分析、納米相轉(zhuǎn)變等應(yīng)用


******************************

SPM掃描頭規(guī)格
1 樣品掃描器:壓電材料制薄片掃描器 3D Flat Scanner™;厚度為7毫米

2 SPM掃描范圍: 樣品掃描,zui大100 microns XYZ

3 掃描分辨率: < 0.005 nm Z
< 0.015 nm XY
< 0.002 nm XY 低電壓模式

4 粗調(diào)定位范圍:6毫米

5 反饋機制:懸臂梁光束反彈反饋,音叉反饋選配

6 樣品尺寸:標準配置下,直徑zui大至16毫米;正置顯微鏡下使用,直徑zui大至34毫米 特殊樣品形狀:如豎直樣品進行邊緣成像等

7 探針:各種針尖外露的玻璃探針,各種常規(guī)懸臂梁硅探針均可使用


*******************************

成像分辨率1 遠場: 受光衍射幾何限制

2 光學(xué): 500納米

3 共聚焦: 200納米

4 近場掃描光學(xué): 100納米,條件下可達到50納米由探針孔徑?jīng)Q定

5 形貌: Z向噪聲0.05納米 rms;XY橫向分辨率:由針尖直徑和樣品的卷積決定

6 熱成像: 100納米起,溫度靈敏度0.01ºC,300 ºC或更高由樣品決定

7 電阻成像: 25納米

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