作為本次活動主持，會議伊始，她表示，材料聯(lián)合體保持著國際開放合作的態(tài)度，希望能與梅特勒托利多等國際企業(yè)一道積極推動國際國內(nèi)材料、設備及零部件等企業(yè)友好進行產(chǎn)業(yè)與技術(shù)交流。

半導體材料是下游應用的基石，其性能表現(xiàn)直接關(guān)系到下游的發(fā)展質(zhì)量。因此，先進的表征與分析檢測技術(shù)對產(chǎn)品良率至關(guān)重要。

鄧桂鳳女士在會上致辭，她表示，本次活動搭載集成電路材料創(chuàng)新聯(lián)合體，與行業(yè)人員共同探討集成電路材料檢測技術(shù)。梅特勒托利多將帶來半導體材料生產(chǎn)、研發(fā)的系列技術(shù)解決方案。

劉超先生在報告環(huán)節(jié)為我們帶來了主題演講分享——“半導體產(chǎn)業(yè)鏈智能稱重應用”。劉總指出， 生產(chǎn)計量稱重對半導體材料制作進行精準控制，是實現(xiàn)材料產(chǎn)品良率最大化的重要工具。例如濕電子化學品工藝過程中，精餾和過濾工藝，原料存儲計量、過程料位計量、包裝計量及復核、貿(mào)易結(jié)算以及后期的混配工藝和配料管理應用中都需要稱重工具支撐，確保最終產(chǎn)品的質(zhì)量和工藝表現(xiàn)穩(wěn)定性。

鄒閱超博士分享了上海集材院在光刻膠及濕電子化學品檢測技術(shù)能力。上海集材院擁有ICPMS、GPC、NMR、FTIR、陰離子IC等多臺材料表征設備，并且擁有十級、百級、萬級潔凈室，可針對各類光刻膠、濕電子化學品等多種材料作較為系統(tǒng)的理化性能分析，包括元素分析、構(gòu)造解析、色譜分析、熱分析等。在高純材料方面，針對金雜、顆粒、陰離子等高度關(guān)注項，集材院正探索出一套更低檢出限、更高靈敏度、更穩(wěn)定可靠的檢測方法，并嚴格規(guī)范操作標準、材料使用。

汪正教授帶來關(guān)于“等離子體質(zhì)譜應用于高純半導體材料分析”的主題演講。汪教授指出半導體制程中50%的廢棄硅片由于所用試劑及材料中的痕量污染，半導體行業(yè)關(guān)注的元素中，堿金屬、堿土金屬可能引起元器件漏電，過度元素和重金屬會縮短元器件壽命，滲透元素影響電子和空穴的數(shù)量。ICP-MS幫助材料廠商有效檢測高純材料金屬雜質(zhì)含量。最后，他還介紹了LA-ICP-MS雜質(zhì)元素原位定量分析方法研究在碳化硅等材料的應用。

馬珺瑛女士發(fā)表“在線檢測技術(shù)在半導體材料生產(chǎn)的新應用”的主題演講。馬老師指出，隨著半導體進程的發(fā)展，IC制造對濕電子化學品污染控制提出了更高的要求，梅特勒托利多6000TOCi總有機碳分析儀，打斷了非離子有機物（不導電）的化學鍵，將其氧化成為可導電的物質(zhì)，從而能夠進行快速而連續(xù)地測量，有效在線監(jiān)測有機物污染情況，相比其他方法，具有更低的檢測限。

潘濤先生帶來” 原子力顯微鏡在半導體FA領(lǐng)域應用”的主題演講。潘總表示，原子力顯微鏡（AFM）可以在非真空態(tài)實現(xiàn)亞納米級的分辨率，也可用于測量非導電樣品。AFM在半導體器件失效分析中具有重要應用，它可以提供高分辨率的表面形貌和物理特性信息，例如粗糙度，關(guān)鍵尺寸、晶圓表面缺陷、測量 STI（淺溝槽隔離）的深度、器件的電學失效分析、互連線的剖面輪廓和光掩膜版修復等幫助確定失效的原因和位置。