目錄:江陰韻翔光電技術(shù)有限公司>>光學(xué)元件>>反射鏡>> 優(yōu)質(zhì)基材
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更新時(shí)間：2023-12-21 11:34:31瀏覽次數(shù)：903評(píng)價(jià)
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| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 |
優(yōu)質(zhì)基材
腔衰蕩時(shí)間光譜儀或EUV鏡的特殊激光應(yīng)用的優(yōu)質(zhì)基材的特點(diǎn)是：
Ø準(zhǔn)確的幾何形狀：有關(guān)直徑，厚度，折痕或曲率半徑等幾何特性的公差，請(qǐng)參見(jiàn)我們目錄的第12頁(yè)
Ø表面粗糙度
Ø表面形狀公差
Ø拋光表面上的缺陷數(shù)量
LAYERTEC針對(duì)所有這些參數(shù)優(yōu)化了拋光程序。 在下文中，我們就會(huì)展示使用熔融二氧化硅和氟化鈣可獲得的出色結(jié)果。
規(guī)格
表面粗糙度
ØRMS-熔融石英和氟化鈣的平面基板的粗糙度<1.5Å
Ø在光滑彎曲的球形熔融石英表面上得到相似的結(jié)果（取決于直徑和曲率半徑的比率）
Ø即使在紫外線范圍內(nèi)，基材的散射損耗也非常低：
ØTS = 2 x 10 – 5 at 248nm (total backscattering)
ØTS = 5.6 x 10 – 4 (total backscattering) and 7.5 x 10 – 4 (forward scattering) at 193 nm
Ø即使在DUV / VUV波長(zhǎng)范圍內(nèi)也適用于低損耗光學(xué)元件
高質(zhì)量拋光熔融石英基板的功率譜密度（PSD）曲線（在FhG IOF Jena上執(zhí)行的測(cè)量）
高質(zhì)量拋光CaF2基板（在FhG IOF Jena執(zhí)行）的3D AFM測(cè)量，均方根粗糙度0.12nm
表面形狀公差
Fused silica | Plane | λ/20 (633nm) for diameters of 6.35mm … 101.6 mm |
Spherical | λ/10 (633nm) for diameters of 6.35mm … 38.1mm | |
CaF2 | Plane | λ/10 (633nm) for diameters of 12.7mm … 25.4 mm |
λ/4 (633nm) for diameters of 38.1mm … 50.8 mm | ||
Spherical | λ/4 (633nm) for diameters of 12.7mm ... 50.8mm |
表面質(zhì)量
Material | ISO 10110 (∅25mm) | Approximately equivalent to MIL-O-13830 |
Fused Silica | 5/1x 0.010 L1x 0.0005 | Scratch - Dig 5 - 1 |
CaF2 | 5/1x 0.016 L1x 0.0010 | Scratch - Dig 10 - 2 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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