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北京長(zhǎng)恒榮創(chuàng)科技有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第5年

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C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

參   考   價(jià): 99

訂  貨  量: ≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌crisoptical /長(zhǎng)恒榮創(chuàng)

廠(chǎng)商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時(shí)間:2024-09-09 10:50:36瀏覽次數(shù):144次

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曝光面積 100mm*100mm 曝光強(qiáng)度 40mW/cm2可調(diào)
紫外光源壽命 2萬(wàn)小時(shí) 對(duì)準(zhǔn)精度 1μm
套刻精度 1μm 主機(jī)電源 220V±10%
重量 ≤100Kg
C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)本機(jī)針對(duì)各大專(zhuān)院校、企業(yè)及科研單位。對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī),三層減震,組合式,拆卸方便。

它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn),適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)主要用途

本機(jī)針對(duì)各大專(zhuān)院校、企業(yè)及科研單位。對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī),三層減震,組合式,拆卸方便。


  它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn),適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。


 


C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)主要性能指標(biāo):


1. 多種版夾盤(pán)


l C-25X300型4英寸有四種版夾盤(pán),能真空吸附5"×5"或4"×4"或3"×3"方形掩板。對(duì)版的厚度無(wú)特殊要求(1~4mm皆可)。


l C-25X300型6英寸有六種版夾盤(pán),能真空吸附7"×7"或6"×6"或5"×5"或4"×4"或3"×3"或2.5"×2.5"方形掩板。對(duì)版的厚度無(wú)特殊要求(1~4mm皆可)。


 


2. 真空吸附基片的“承片臺(tái)"


l C-25X300型4英寸設(shè)有相對(duì)應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺(tái)"三個(gè),分別適用于φ2、φ3、φ4。對(duì)于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。


l C-25X300型6英寸設(shè)有相對(duì)應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺(tái)"五個(gè),分別適用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6。對(duì)于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。


 


3. 照明


l 曝光面積:100mm*100mm


l 曝光不均勻性≤3%


l 曝光強(qiáng)度≥40mW/cm2可調(diào)


l 紫外光束角≤3°


l 紫外光中心波長(zhǎng)365nm、404nm、435nm可選


l 紫外光源壽命:≥2萬(wàn)小時(shí)


 


4. 采用進(jìn)口時(shí)間繼電器(該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預(yù)設(shè))控制氣動(dòng)快門(mén),動(dòng)作準(zhǔn)確可靠。


 


5. 該機(jī)為接觸式曝光機(jī),但可實(shí)現(xiàn):


l 硬接觸曝光:用管道真空來(lái)獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。


l 軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ~ -0.05MPa之間。


l 微力接觸曝光:小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。


 


6. 分辯率估計(jì)


如果用戶(hù)的“版"、“片"精度符合國(guó)家規(guī)定,環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制,采用進(jìn)口正性光刻膠,且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝先進(jìn)的話(huà),硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上


 


7. 對(duì)準(zhǔn)


觀察系統(tǒng)為兩個(gè)單筒顯微鏡上裝二個(gè)CCD攝像頭,通過(guò)視屏線(xiàn)連接到顯視屏上。


a.單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡(也可為1.6X~10X)。


b.CCD攝像機(jī)靶面對(duì)角線(xiàn)尺寸為:1/3,(6mm);


c.采用19"液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍;


d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù)),4.5×57≈256倍(最大倍數(shù))或(91倍~570倍)。


對(duì)準(zhǔn)臺(tái):(采用片動(dòng),版不動(dòng)方式)


X、Y調(diào)整:±5mm。


θ調(diào)整:轉(zhuǎn)角≤5°


對(duì)準(zhǔn)間隙(分離間隙)0~5mm任意可調(diào)。


對(duì)準(zhǔn)精度:1μm


套刻精度:1μm


整個(gè)對(duì)準(zhǔn)臺(tái)相對(duì)于顯微鏡可作±20mm掃描運(yùn)動(dòng)。


“接觸、分離"20μm情況下,片相對(duì)于版的“漂移量",可調(diào)到≤±0.5μm。


 


8. 設(shè)備所需能源:


主機(jī)電源: 220V±10%   50HZ


潔凈空氣≥0.4MPα。


真空:-0.07~-0.08MPα。


 


9. 尺寸和重量:


尺寸:機(jī)體720 mm(長(zhǎng))×720 mm(寬)×882mm(高)。


重量:≤100Kg。


機(jī)體放在專(zhuān)用工作臺(tái)上。


工作臺(tái):1100 mm(長(zhǎng))×750 mm(寬)×645 mm(高)。


高度可調(diào)范圍0~30mm。


重量50Kg(工作臺(tái)后側(cè)裝有電氣部分)。


總重量≤200Kg


 


10. C-25XB型光刻機(jī)的組成


l 主機(jī)


主機(jī)(含機(jī)體和工作臺(tái))


對(duì)準(zhǔn)用單筒顯微鏡


LED曝光頭


l 附件


主機(jī)附件


3"□型掩版夾盤(pán)


4"□型掩版夾盤(pán)(出廠(chǎng)時(shí)安裝到機(jī)器上)


用于2"基片的真空夾持承片臺(tái)。


用于3"基片的真空夾持承片臺(tái)(出廠(chǎng)時(shí)安裝到機(jī)器上)


(若需特殊的基片承片臺(tái),訂貨時(shí)用戶(hù)提出)


顯微鏡組成


單筒顯微鏡二個(gè)


兩個(gè)CCD


視頻連接線(xiàn)。


計(jì)算機(jī)和22"液晶監(jiān)視器。


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