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上海美析儀器有限公司

石墨爐原子吸收光譜法測定高純氧化鋁中銅、鐵和鈉含量

時間:2015-5-12 閱讀:2915
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懸浮液進(jìn)樣自吸扣背景石墨爐原子吸收光譜法測定高純氧化鋁中銅、鐵和鈉含量

 

關(guān)鍵詞:石墨爐原子吸收光譜法;自吸扣背;氧化鋁中銅、鐵和鈉含量,美析AA-1800

 

 采用懸浮液-自吸扣背景石墨爐原子吸收法測定了高純氧化鋁中痕量元素銅、鐵、鈉含量。實驗對灰化溫度、原子化溫度和自吸扣背景燈電流等石墨爐原子吸收工作條件等進(jìn)行了優(yōu)化,確定了*測定條件。樣品測試采用標(biāo)準(zhǔn)水溶液進(jìn)行校正,方法準(zhǔn)確性采用氧化鋁AKP-30在高溫高壓和濃硫酸密閉條件下溶解樣品進(jìn)樣分析測定結(jié)果與文獻(xiàn)報道的其他測定方法結(jié)果進(jìn)行了對比。研究表明本方法簡單,結(jié)果可靠,適用于氧化鋁中痕量元素的快速測定。校正曲線的線性相關(guān)性大于0.999 0,方法對銅、鐵、鈉的檢出限分別為0.66,2.5,0.13ng·g-1,相對標(biāo)準(zhǔn)偏差小于5.2%。

  氧化鋁是一種先進(jìn)陶瓷材料,也是多種先進(jìn)陶材料的基本組分。近年來,在國內(nèi)外發(fā)展極為迅速,廣泛應(yīng)用于電器絕緣材料、集成電路基板等許多高科技行業(yè)。為了提高材料的強度、韌性、致密性、熱穩(wěn)定性,透明性、光電性能或降低燒結(jié)溫度等,要求采用純度高(微量、痕量元素,如Fe,Cu,Na等直接影響材料的結(jié)構(gòu)和性能)、粒度為亞微米級乃至于納米級、粒度分布范圍窄、燒結(jié)活性好的超細(xì)氧化鋁粉體原料。
    目前,高純氧化鋁痕量元素表征還缺乏有效的分析測試手段,主要是由于高純氧化鋁難于制備成液體。通常情況下氧化鋁的溶解使用硫酸[1]、鹽酸[2,3]、磷酸[4,5]、混酸[6]進(jìn)行高壓或者微波溶樣。檢測技術(shù)有電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-AES)[3-10]、電熱蒸發(fā)電感耦合等離子體質(zhì)譜(ETVICP-MS)[1,11-13]、原子吸收光譜(AAS)[2,14]。但這些方法都需要消耗量的處理時間,存在試劑和容器污染的危險和缺陷。懸浮液進(jìn)樣結(jié)合了液體進(jìn)樣和固體進(jìn)樣的優(yōu)點,具有試樣無須*消解,稱取樣品的總質(zhì)量高及靈敏度高等特點。將固體樣品制成懸浮液是目前使用zui廣泛的固體進(jìn)樣方式[8-14]。懸浮液石墨爐原子吸收光譜分析結(jié)合了固體和液體進(jìn)樣方式的顯著優(yōu)勢,是一種相對成熟的技術(shù),并已作為常規(guī)分析方法廣泛應(yīng)用于有機和無機復(fù)雜基體中微、痕量金屬元素的分析測定[15]。
  懸浮液不需將樣品制備成溶液,因此相比溶液進(jìn)樣,顆粒在原子化過程中將產(chǎn)生非特定吸收。石墨爐程序升溫也很難避免待分析物和基體同時原子化,因此,有效的背景校正是必要的。自吸背景校正又稱Smith-Hieftje(S-H)法,是利用對空心陰極燈進(jìn)行強弱脈沖供電進(jìn)行背景校正的方法。是一種簡便易行,性能良好的背景校正方法。
    本文應(yīng)用石墨爐原子吸收自吸扣背景方式,采用懸浮液直接進(jìn)樣和自吸扣背景測定氧化鋁中痕量元素銅、鐵和鈉的含量。

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