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當(dāng)前位置：上海添時(shí)科學(xué)儀器有限公司>>制膜設(shè)備>>磁控濺射鍍膜>> GSL-CKJS-450-B1磁控濺射儀
1、真空度高。
2、可制備多種薄膜，金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡(jiǎn)便。
4、清理安裝便捷。
5、控制可選一體化觸摸屏控制
技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | GSL-CKJS-450-B1磁控濺射儀 | |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用. | |
| 1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） | ||
| 2、電:AC380V 50Hz,必須有良好接地 | ||
| 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣(純度99.99%以上),需自備實(shí)驗(yàn)氣體氣瓶(自帶Ø10mm雙卡套接頭)及減壓閥 | ||
| 4、場(chǎng)地:設(shè)備尺寸3500×1600mm,承重1000kg以上 | ||
| 5、通風(fēng)裝置：需要 | ||
| 主要參數(shù) | 1、主濺射室尺寸：Ø450×355mm筒形真空室 | |
| 2、主濺射室真空度：5×10-5Pa | ||
| 3、永磁靶3套,靶材尺寸φ2″,各靶射頻與直流濺射兼容(其中1個(gè)靶可濺射鐵磁材料),靶與樣品距離90-110mm可調(diào) | ||
| 4、三靶共濺,三個(gè)靶可共同折向樣品中心,距離40-80mm可調(diào) | ||
| 5、基片加熱與水冷獨(dú)立工作,加熱爐可與水冷樣品臺(tái)可互換,加熱工位最高溫度600℃±1℃ | ||
| 6、樣品尺寸：φ1″ | ||
| 7、樣品臺(tái)可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5-15轉(zhuǎn)/分 | ||
| 8、基片可加-200V負(fù)偏壓 | ||
| 9、公轉(zhuǎn)6工位樣品臺(tái),可一次性安裝6片φ1″基片 | ||
| 拆下水冷加熱樣品臺(tái)可換上6工位樣品臺(tái),其中5個(gè)工位為自然冷卻工位,1個(gè)加熱工位,加熱工位溫度600℃±1℃ | ||
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 整機(jī)尺寸:1500×900mm×2000mm； | |
| 標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1、電源控制系統(tǒng)1套 | |
| 2、真空獲得系統(tǒng)1套 | ||
| 3、真空測(cè)量裝置1套 | ||
