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技術(shù)參數(shù)
| 主要特點(diǎn) | 采用氣體作為清洗介質(zhì),避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。 |
| 可短時(shí)間內(nèi)*清洗掉有機(jī)污染物。 | |
| 清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。 | |
| 可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。 | |
| 清洗過程中的輝光放電可對(duì)某些特殊用途的材料加強(qiáng)粘附性、相容性和浸潤性,并可消毒和殺菌. | |
| 樣品臺(tái)可選配加熱功能,可加負(fù)偏壓,用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻. | |
| 廣泛應(yīng)用于光學(xué),光電子學(xué),電子學(xué),材料科學(xué),生命科學(xué),高分子科學(xué),生物醫(yī)學(xué),微觀流體學(xué)等領(lǐng)域. | |
| 參數(shù) | 電壓：AC220V 10A |
| 消耗功率：<500W（包括真空泵） | |
| RF電源：輸出功率100W，輸出頻率13.56MHz | |
| 腔體：Φ190mm×98mm | |
| 石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm | |
| 內(nèi)腔：Φ165mm×55mm | |
| 清洗電極：Φ120mm | |
| 樣品臺(tái)：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm | |
| 樣品臺(tái)與電極間距：15mm-50mm可調(diào) | |
| 抽氣管：Φ12mm | |
| 極限真空度：0.1Pa | |
| 工作真空度：60Pa-500Pa | |
| 氣路數(shù)量：2路（選裝） | |
| 流量控制器數(shù)量：1、2 | |
| 流量顯示儀：2通道 | |
| 氣路接口：Φ6mm | |
| 加熱樣品臺(tái)：Φ140mm，加熱樣品溫度RT-600℃±1℃（選裝） | |
| 冷卻水壓力：0.2KPa-0.4KPa | |
| 工作環(huán)境：溫度5℃-35℃，濕度<80%（相對(duì)濕度）不結(jié)露，海拔高度0-2000m | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵） |
| 重量：20kg（不含真空泵） | |
| 可選配置 | 加熱樣品臺(tái) |
| 流量控制器（量程10、50、100，多可增加2個(gè)通道） |
