可對ECL發(fā)光等直接曝光成像，并獲得實驗結(jié)果。以往實驗室主要使用暗室曝光壓片進行ECL檢測，但建造暗室成本高而且浪費實驗室空間，曝光步驟繁瑣，沖洗X膠片時還會接觸到有毒的化學試劑?；瘜W發(fā)光成像系統(tǒng)的使用已經(jīng)逐漸取代傳統(tǒng)的暗室壓片曝光檢測。

產(chǎn)品介紹：

可對ECL發(fā)光等直接曝光成像，并獲得實驗結(jié)果。以往實驗室主要使用暗室曝光壓片進行ECL檢測，但建造暗室成本高而且浪費實驗室空間，曝光步驟繁瑣，沖洗X膠片時還會接觸到有毒的化學試劑?；瘜W發(fā)光成像系統(tǒng)的使用已經(jīng)逐漸取代傳統(tǒng)的暗室壓片曝光檢測。

 

性能特點：

?可通過 F/0.80, 高清晰大口徑高通透定焦鏡與高靈敏度數(shù)碼制冷CCD的*結(jié)合，使實驗者擺脫煩瑣的傳統(tǒng)暗室X膠片曝光方式，方便快速高效地獲得化學發(fā)光的實驗結(jié)果。
?可通過電腦進行化學發(fā)光圖像的實時觀測；
?可通過一次拍攝無需任何操作即可將marker圖像與化學發(fā)光圖像自動疊加并且自動生成三種不同效果的化學發(fā)光圖像；
?可通過一鍵拍攝，無需揣摩曝光時間，一鍵完成western blot結(jié)果成像
?可設(shè)定連續(xù)采樣的次數(shù)、并可終止曝光時間，進行動態(tài)連續(xù)拍攝方便獲得好條件和效果的實驗結(jié)果；

 

應(yīng)用范圍：
化學發(fā)光檢測Western Lightning、 ECL、ECL plus、CDP Star、SuperSignal、CSPD、 LumiGlo等發(fā)光底物