1. 主要用途：

該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(tǒng)（PECVD），連續(xù)可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統(tǒng)，可以低壓條件下實現(xiàn)工藝，PECVD系統(tǒng)

能使整個實驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光相對均勻等效，很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，該設備爐管可360°旋轉，有助于粉

料的燒結更均勻，可大角度傾斜，方便進出料，傾斜角度在0-35°之間，所有物料經(jīng)過的管道都選用非金屬材質，如：進出料腔體選用石

英材質，推料桿選用石英及聚四氟材質。

2.結構與原理圖：

                                             結構圖

設備組成：加熱系統(tǒng)，Plasma系統(tǒng)，進料系統(tǒng)，出料系統(tǒng)，氣體控制系統(tǒng)，低真空系統(tǒng)，氣料分離系統(tǒng)，過濾系統(tǒng)，爐管轉動系統(tǒng)，電控操作系統(tǒng)。

（1）加熱系統(tǒng)：

該加熱系統(tǒng)的加熱腔體采用氧化鋁纖維制品，其極低的熱導率和比熱容，保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱，特別適合于科研單位的材料工藝研

究。加熱元件選用電阻絲加熱，適合中低溫度加熱系統(tǒng)。

高溫真空電阻爐溫度控制系統(tǒng)采用經(jīng)典的閉環(huán)負反饋控制系統(tǒng)，控溫儀表選用智能型程序溫度調節(jié)儀表控溫，電力調制器控制；負載采用小電

壓大電流控制，從而大大提高了發(fā)熱元件的壽命，測溫元件采用K型熱偶。采用單回路溫控儀能夠自整定PID 參數(shù)，無須操作人員的干預，可

自行根據(jù)不同溫度曲線的升、降溫要求調整輸出信號，同時系統(tǒng)設置了超溫、欠溫、斷偶報警保護功能，大大降低了對操作人員經(jīng)驗的要求。

（2）Plasma系統(tǒng)：

本系統(tǒng)借助于輝光放電產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中，電子密度高，通過反應氣態(tài)放電，有效利用了非平衡等離子體的反應特征，從根

本上改變了反應體系的能量供給方式。

（3）進料系統(tǒng)：

送料系統(tǒng)速度連續(xù)可調，停止送料且爐體傾斜大時，物料不會從送料系統(tǒng)外漏，送料系統(tǒng)方便拆卸，拆卸后可手動加料，設備可正常運行。

（4）出料系統(tǒng)：

出料系統(tǒng)在爐體傾斜出料時可自動出料。

（5）氣體控制系統(tǒng)：

該控氣系統(tǒng)是可以控制兩種氣體按照不同流量進行混合配比的，也可以獨立控制，質量流量計安裝于密封的可移動的機柜內，由超潔雙拋不銹

鋼管與精密雙卡套接頭連接組成。

（6）低真空系統(tǒng)：

該系統(tǒng)配備真空機械泵，可以抽真空，可以讓設備在真空環(huán)境下進行反應。

（7）氣料分離系統(tǒng)：

該系統(tǒng)可以讓設備在充氣體保護或者抽真空時，實現(xiàn)氣體與物料的分離。

（8）過濾系統(tǒng)：

該系統(tǒng)可防止物料進入真空泵，保證真空泵的正常運行。

（9）爐管轉動系統(tǒng)：

爐管轉動系統(tǒng)可以讓爐管360°勻速轉動，轉速在0-60r/min連續(xù)可調，且能在60r/min轉速下長時間運行。

3.技術指標：

（1）該設備爐管可360度旋轉，管內壁有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結得更均勻；

（2）整個爐子和送料、收料系統(tǒng)能夠一起傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35°之間可調；

（3）送料系統(tǒng)送料速度連續(xù)可調，停止送料且爐體大傾斜時，物料不從送料系統(tǒng)外漏。送料系統(tǒng)方便拆卸，拆卸之后可以手動加料，設備可

正常運行。

（4）爐管回轉穩(wěn)定，不會上下左右跳動；轉速在0~60r/min連續(xù)可調，能在60r/min轉速下連續(xù)*運轉(>24h)。

（5）爐子轉速，加料速度，傾斜角度，真空度，氣體流量，溫度，運行時間，等離子體功率等參數(shù)都用數(shù)字顯示，并在運行過程記錄設備整個

運行軌跡及上述參數(shù)（在工控及獨立電腦上均能實現(xiàn)）；

（6）設備運行可分為手動模式與自動模式；自動模式下可實現(xiàn)高度自動化運行，所有參數(shù)程序設定好后自動運行：可實現(xiàn)按照設定程序連續(xù)工

作，可設置多工作段不同參數(shù)，并可進行某工作段循環(huán)工作及某程序循環(huán)工作；