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表面細(xì)節(jié)豐富的高分辨率照片
Phenom（飛納） G2 Pro 為您提供高信噪比、表面細(xì)節(jié)豐富的優(yōu)質(zhì)圖像：
• 20×-45,000×連續(xù)放大，分辨率優(yōu)于25nm，大景深；
• 傳統(tǒng)電鏡往往通過提高加速電壓來產(chǎn)生更高的信號(hào)，同時(shí)由于穿透深度較深，導(dǎo)致表面細(xì)節(jié)缺失。低加速電壓
電子穿透深度淺，避免樣品被破壞，展現(xiàn)更多表面細(xì)節(jié)；
• 探測(cè)背散射電子，展現(xiàn)清晰形貌結(jié)構(gòu)的同時(shí)，提供豐富的成份信息；

左圖：5kV低加速電壓下，電子反應(yīng)區(qū)位于樣品表面，配合高亮度CeB6燈絲，既保證了分辨率，又得到樣品表面的信息；右圖：15kV高加速電壓下，電子穿透深度較深，表面細(xì)節(jié)不明顯		CeB6燈絲在樣品表面單位面積內(nèi)激發(fā)的信號(hào)約是鎢燈絲的10倍，適合于低加速電壓觀測(cè)

表面形貌和成分信息同時(shí)展現(xiàn)
背散射電子的產(chǎn)率、出射角度與樣品成份及表面形貌相關(guān)。Phenom（飛納）采用4分割半導(dǎo)體背散射電子探測(cè)器，為您提供兩種成像模式，模式之間可迅速切換：
• 成份模式：同時(shí)給出樣品表面形貌與成份信息，不同元素可由其灰度對(duì)比度的不同加以分辨
• 形貌模式：去除成份信息，樣品表面凹凸起伏等微觀結(jié)構(gòu)更加明晰，適用于表面粗糙度和缺陷分析

成份模式 4分割背散射電子探測(cè)器扇區(qū)所得的信號(hào)相疊加	形貌模式 4分割背散射電子探測(cè)器扇區(qū)所得的信號(hào)相抵消

成份模式圖像包含樣品成份與形貌信息	形貌模式圖像僅突出樣品表面形貌特征

樣品杯，30秒快速成像
Phenom（飛納）樣品杯、低真空設(shè)計(jì)、的真空封鎖技術(shù)，裝入樣品后30秒內(nèi)即可得到高質(zhì)量圖像，耗時(shí)僅為傳統(tǒng)電鏡的1/10左右。

直接觀看絕緣體，無需噴金

Phenom（飛納）采用低真空技術(shù)，出射電子與空氣分子碰撞產(chǎn)生正離子，正離子與樣品表面累積的電子中和，有效抑制荷電效應(yīng)的產(chǎn)生，直接觀測(cè)各種不導(dǎo)電樣品（如下圖所示）。

利用降低荷電效應(yīng)樣品杯，更可將開始荷電的放大倍數(shù)提高8倍左右，而且不會(huì)影響燈絲壽命，下圖頭發(fā)示例：

操作簡(jiǎn)便，全程導(dǎo)航
	• 自動(dòng)/手動(dòng)聚焦	Phenom（飛納）操作界面。通過點(diǎn)擊右側(cè)圖標(biāo)可以輕松完成圖像縮放、聚焦、亮度對(duì)比度調(diào)節(jié)、旋轉(zhuǎn)等操作。界面右側(cè)顯示光學(xué)導(dǎo)航和低倍SEM導(dǎo)航窗口，方便用戶在不同樣品、不同區(qū)域間進(jìn)行切換。
	• 自動(dòng)/手動(dòng)亮度
	• 自動(dòng)/手動(dòng)對(duì)比度
	• 自動(dòng)燈絲居中調(diào)節(jié)
	• 自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)
	• 光學(xué)/電子樣品導(dǎo)航

			光學(xué)導(dǎo)航，所有帶觀測(cè)樣品盡在視野之中，高倍下準(zhǔn)確切換樣品，只需點(diǎn)擊感興趣樣品，即可自動(dòng)移動(dòng)到屏幕*
			低倍SEM照片導(dǎo)航，導(dǎo)航窗口中的彩色矩形框指示了住觀測(cè)窗口的觀測(cè)區(qū)域，點(diǎn)擊感興趣的區(qū)域，自動(dòng)移動(dòng)到樣品*。

環(huán)境適應(yīng)性高，*防震

Phenom（飛納）可以放置在幾乎所有的室內(nèi)環(huán)境當(dāng)中，無需超凈間。采用燈絲、探測(cè)器、樣品臺(tái)相對(duì)一體化的設(shè)計(jì)，震動(dòng)不會(huì)引起三者間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使Phenom成像不受震動(dòng)影響，可放置在較高樓層。

互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程檢測(cè)

Phenom（飛納）擁有遠(yuǎn)程檢測(cè)功能，通過網(wǎng)絡(luò)，專業(yè)工程師可隨時(shí)為您遠(yuǎn)程檢測(cè)系統(tǒng)、答疑解難，為您提供*的保護(hù)，讓您的Phenom隨時(shí)處于*工作狀態(tài)。

豐富的拓展功能選件

ProSuite應(yīng)用平臺(tái)