真空熔煉爐用途:適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產(chǎn)設(shè)備
真空熔煉爐
GR.VMF系列真空熔煉爐詳細(xì)介紹
GR.VMF系列,具有*的性能設(shè)計,集多項于一身,安全性,可靠性,實用性均達(dá)*效果。
小型廣泛應(yīng)用于大專院校及科研單位,在真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理,也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。
一、技術(shù)參數(shù)
1.設(shè)備名稱:真空感應(yīng)熔煉爐
2.冷態(tài)極限真空度:5×10﹣3Pa
3.額定溫度:1700℃
4. 額定功率:15KW
5. ;坩堝容量:100g~500g(熔液)
6.壓升率:≤2Pa/h
7.中頻電源:IGBT
二、結(jié)構(gòu)說明
本產(chǎn)品由爐蓋、爐體、回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、澆注裝置、真空系統(tǒng)及高頻電源控制系統(tǒng)等組成。
1、爐體:為全不銹鋼結(jié)構(gòu)。爐殼采用雙層水冷結(jié)構(gòu),爐殼溫度不超過50℃。爐蓋打開方式為手動,并加有鎖緊裝置,爐蓋上設(shè)有觀察孔及屏蔽等。
2、回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu):與爐體用法蘭連接,感應(yīng)線圈由銅管繞成螺旋形從爐體引出,采用威爾遜密封,密封可靠。
3、澆注裝置:在坩堝旁邊從爐體內(nèi)生一平臺,上面放置錠模,料熔煉好以后轉(zhuǎn)動手柄,將坩堝內(nèi)的料傾倒在錠模內(nèi)。
4、真空系統(tǒng):采用二級泵,油擴(kuò)散泵(或分子泵)與直聯(lián)泵。真空機(jī)組上設(shè)有放氣閥及充氣閥。
5、電源:電源采用IGBT進(jìn)口功率器件,更加集成化小型化,有效輸出功率達(dá)到90%以上,省電節(jié)能,比傳統(tǒng)可控硅中頻節(jié)能60%!,電氣系統(tǒng)設(shè)有過流、過壓返饋及保護(hù)電路。