真空碳管爐用途:適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備
真空碳管爐
GR.VCTF系列真空碳管爐詳細(xì)介紹
GR.VCTF系列,具有*的性能設(shè)計(jì),集多項(xiàng)于一身,安全性,可靠性,實(shí)用性均達(dá)*效果。
一、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)介:
本產(chǎn)品由爐蓋、爐體、爐底、真空系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等組成。
爐蓋、爐體及爐底均采用雙層水冷結(jié)構(gòu),保持爐殼溫度不超過(guò)60℃。爐蓋打開(kāi)方式為手動(dòng),爐蓋上設(shè)有觀察孔。爐體內(nèi)有用石墨做成的保溫層,發(fā)熱元件采用石墨棒。1000℃-2300℃采用紅外為傳感器。
真空系統(tǒng)采用二級(jí)泵,即650分子泵與2X-15機(jī)械泵,機(jī)械泵上設(shè)有電磁放氣閥避免停電后返油。真空機(jī)組上設(shè)有放氣閥及充氣閥。
電氣控制采用大電流變壓器、調(diào)壓器及溫度控制儀表組成溫度控制執(zhí)行回路。電路設(shè)有斷水、過(guò)流、超溫報(bào)警及保護(hù)功能。
二、技術(shù)參數(shù):
1.額定功率:50KW
2.zui高溫度:2500℃
3.工作區(qū)尺寸:Ф60×120
4.極限真空度:6.67×10-4Pa
5.溫度控制:紅外自動(dòng)控制
真空熔煉爐
GR.VMF系列真空熔煉爐詳細(xì)介紹
GR.VMF系列真空熔煉爐,具有*的性能設(shè)計(jì),集多項(xiàng)于一身,安全性,可靠性,實(shí)用性均達(dá)*效果。
小型真空熔煉爐廣泛應(yīng)用于大專院校及科研單位,在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理,也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。
一、技術(shù)參數(shù)
1.設(shè)備名稱:真空感應(yīng)熔煉爐
2.冷態(tài)極限真空度:5×10﹣3Pa
3.額定溫度:1700℃
4. 額定功率:15KW
5. ;坩堝容量:100g~500g(熔液)
6.壓升率:≤2Pa/h
7.中頻電源:IGBT
二、結(jié)構(gòu)說(shuō)明
本產(chǎn)品由爐蓋、爐體、回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、澆注裝置、真空系統(tǒng)及高頻電源控制系統(tǒng)等組成。
1、爐體:為全不銹鋼結(jié)構(gòu)。爐殼采用雙層水冷結(jié)構(gòu),爐殼溫度不超過(guò)50℃。爐蓋打開(kāi)方式為手動(dòng),并加有鎖緊裝置,爐蓋上設(shè)有觀察孔及屏蔽等。
2、回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu):與爐體用法蘭連接,感應(yīng)線圈由銅管繞成螺旋形從爐體引出,采用威爾遜密封,密封可靠。
3、澆注裝置:在坩堝旁邊從爐體內(nèi)生一平臺(tái),上面放置錠模,料熔煉好以后轉(zhuǎn)動(dòng)手柄,將坩堝內(nèi)的料傾倒在錠模內(nèi)。
4、真空系統(tǒng):采用二級(jí)泵,油擴(kuò)散泵(或分子泵)與直聯(lián)泵。真空機(jī)組上設(shè)有放氣閥及充氣閥。
5、電源:電源采用IGBT進(jìn)口功率器件,更加集成化小型化,有效輸出功率達(dá)到90%以上,省電節(jié)能,比傳統(tǒng)可控硅中頻節(jié)能60%!,電氣系統(tǒng)設(shè)有過(guò)流、過(guò)壓返饋及保護(hù)電路。