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供應(yīng)摻雜改性類薄膜:ZnCl2-Si02、Zn-SiO2/TiO2

時(shí)間:2021-4-14閱讀:181

供應(yīng)摻雜改性類薄膜:ZnCl2-Si02、Zn-SiO2/TiO2

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SiO2薄膜在微電子的應(yīng)用:
在微電子工藝中,SiO2薄膜因其的電絕緣性和工藝的可行性而被采用。在半導(dǎo)體器件中,利用SiO2禁帶寬度可變的特性,可作為非晶硅太陽電池的薄膜光吸收層,以提光吸收效率;還可作為金屬2氮化物2氧化物2半導(dǎo)體(MN SO)存儲(chǔ)器件中的電荷存儲(chǔ)層,集成電路中CMo s器件和SiGeMO S器件以及薄膜晶體管(TFT)中的柵介質(zhì)層等。
此外,隨著大規(guī)模集成電路器件集成度的提,多層布線技術(shù)變得愈加,如邏輯器件的中間介質(zhì)層將增加到4~5層,這就要求減小介質(zhì)層帶來的寄生電容。鑒于此,現(xiàn)在很多研究者都對(duì)低介電常數(shù)介質(zhì)膜的、制備方法和性能進(jìn)行了研究。對(duì)低介電常數(shù)介質(zhì)材料的要求是:在電性能方面具有低損耗和低耗電;在機(jī)械性能方面具有附著力和硬度;在化學(xué)性能方面要求耐腐蝕和低吸水性;在熱性能方面有穩(wěn)定性和低收縮性。

 

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sio2/tio2-xcx/c多孔可見光響應(yīng)型光催化劑
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