CMP 拋光液研發(fā)裝置是專(zhuān)門(mén)用于開(kāi)發(fā)和優(yōu)化 CMP 拋光液的關(guān)鍵設(shè)備。
主要組成部分：
小型反應(yīng)釜：用于進(jìn)行各種化學(xué)合成和調(diào)配實(shí)驗(yàn)。
精密計(jì)量系統(tǒng)：能夠精確控制各種原材料的添加量，確保配方的準(zhǔn)確性。
多模式攪拌系統(tǒng)：提供不同的攪拌速度和方式，以模擬不同的反應(yīng)條件。
溫度和壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)：可實(shí)現(xiàn)精確的溫度和壓力控制，滿(mǎn)足多樣化的實(shí)驗(yàn)需求。
在線(xiàn)監(jiān)測(cè)儀器：如粒度分析儀、pH 計(jì)、粘度計(jì)等，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)拋光液的性能參數(shù)。
樣品采集和分析系統(tǒng)：方便隨時(shí)采集樣品進(jìn)行離線(xiàn)的深入分析。
工作原理：
研究人員根據(jù)設(shè)定的配方，通過(guò)精密計(jì)量系統(tǒng)將原材料加入小型反應(yīng)釜中。利用多模式攪拌系統(tǒng)和溫度、壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)創(chuàng)造適宜的反應(yīng)環(huán)境。在反應(yīng)過(guò)程中，在線(xiàn)監(jiān)測(cè)儀器實(shí)時(shí)反饋數(shù)據(jù)，研究人員根據(jù)這些數(shù)據(jù)調(diào)整實(shí)驗(yàn)參數(shù)。需要時(shí)，通過(guò)樣品采集和分析系統(tǒng)獲取更詳細(xì)的信息，以不斷優(yōu)化拋光液的配方和工藝。
研究人員根據(jù)設(shè)定的配方，通過(guò)精密計(jì)量系統(tǒng)將原材料加入小型反應(yīng)釜中。利用多模式攪拌系統(tǒng)和溫度、壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)創(chuàng)造適宜的反應(yīng)環(huán)境。在反應(yīng)過(guò)程中，在線(xiàn)監(jiān)測(cè)儀器實(shí)時(shí)反饋數(shù)據(jù)，研究人員根據(jù)這些數(shù)據(jù)調(diào)整實(shí)驗(yàn)參數(shù)。需要時(shí)，通過(guò)樣品采集和分析系統(tǒng)獲取更詳細(xì)的信息，以不斷優(yōu)化拋光液的配方和工藝。
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