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北京國(guó)儀精測(cè)技術(shù)有限公司>>商機(jī)中心>>供應(yīng)列表>>氧化鋯 比表面
[供應(yīng)]氧化鋯 比表面
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  • 氧化鋯 比表面
貨物所在地:
北京北京市
更新時(shí)間:
2023-12-12 21:00:06
有效期:
2023年12月12日 -- 2024年6月12日
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比表面及孔徑分布分析儀V-Sorb 4800P是金埃譜科技自主研發(fā)的全自動(dòng)智能化比表面積和孔徑檢測(cè)儀器,采用靜態(tài)容量法測(cè)量原理,眾多*科研院所及500強(qiáng)企業(yè)應(yīng)用案例,相比國(guó)內(nèi)同類(lèi)產(chǎn)品,金埃譜比表面及孔徑分布分析儀多項(xiàng)*技術(shù)的采用使產(chǎn)品整體性能更加完善,金埃譜比表面及孔徑分布分析儀測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性和*性進(jìn)一步提高,金埃譜比表面及孔徑分布分析儀測(cè)試過(guò)程的穩(wěn)定性更強(qiáng),金埃譜比表面及孔徑分布分析儀達(dá)

詳細(xì)介紹

比表面及孔徑分布分析儀V-Sorb 4800P是金埃譜科技自主研發(fā)的全自動(dòng)智能化比表面積和孔徑檢測(cè)儀器,采用靜態(tài)容量法測(cè)量原理,眾多*科研院所及500強(qiáng)企業(yè)應(yīng)用案例,相比國(guó)內(nèi)同類(lèi)產(chǎn)品,金埃譜比表面及孔徑分布分析儀多項(xiàng)*技術(shù)的采用使產(chǎn)品整體性能更加完善,金埃譜比表面及孔徑分布分析儀測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性和*性進(jìn)一步提高,金埃譜比表面及孔徑分布分析儀測(cè)試過(guò)程的穩(wěn)定性更強(qiáng),金埃譜比表面及孔徑分布分析儀達(dá)到同類(lèi)產(chǎn)品良好水平,部分功能超越國(guó)外產(chǎn)品.

金埃譜科技是早參與比表面積標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)標(biāo)定的機(jī)構(gòu),測(cè)試結(jié)果與國(guó)外數(shù)據(jù)可比性平行性,并獲取認(rèn)證機(jī)構(gòu)的檢測(cè)證書(shū),同時(shí)金埃譜科技也是國(guó)內(nèi)同行業(yè)中注冊(cè)資本規(guī)模zui大,*通過(guò)ISO9001質(zhì)量認(rèn)證的生產(chǎn)企業(yè),雄厚實(shí)力和完善的質(zhì)量及服務(wù)體系,讓您選購(gòu)的產(chǎn)品無(wú)后顧之憂(yōu)!

4站全自動(dòng)比表面及孔徑分布分析儀技術(shù)參數(shù)

測(cè)試方法及功能:真空容量法(真空靜態(tài)法),吸附及脫附等溫線測(cè)定,BJH總孔體積及孔徑分析,樣品真密度測(cè)定,t-plot圖法微孔分析,MP法微孔分析,HK法微孔分析,BET法比表面積測(cè)定(單點(diǎn)及多點(diǎn)),Langmuir法比表面積測(cè)定,平均粒徑估算,t-plot圖法外比表面積測(cè)定

測(cè)定范圍:0.01(m2/g)--至無(wú)上限(比表面積);0.35nm-2nm(微孔);2nm-500nm(中孔或介孔)

測(cè)量精度:重復(fù)性誤差小于1.5%

真空系統(tǒng):V-Sorb*的集裝式管路及電磁閥控制系統(tǒng),大大減小管路死體積空間,提高檢測(cè)吸附氣體微量變化的靈敏度,從而提高孔徑分析的分辨率;同時(shí)集裝式管路減少了連接點(diǎn),大大提高密封性和儀器使用壽命

液位控制:V-Sorb*的液氮面控制系統(tǒng),確保測(cè)試全程液氮面相對(duì)樣品管位置保持不變,*消除因死體積變化引入的測(cè)量誤差

控制系統(tǒng):采用可編程控制器電磁閥控制系統(tǒng),高集成度和抗干擾能力,提高儀器穩(wěn)定性和使用壽命

樣品數(shù)量:同時(shí)進(jìn)行4個(gè)樣品分析和4個(gè)樣品脫氣處理,樣品測(cè)試系統(tǒng)和樣品處理系統(tǒng)必需相互獨(dú)立,并且樣品測(cè)試和樣品脫氣處理必需可以同時(shí)進(jìn)行,避免了測(cè)試管路受到污染,從而進(jìn)一步確保測(cè)試的精度和提高儀器使用壽命

壓力測(cè)量:采用壓力分段測(cè)量的進(jìn)口4支壓力傳感器,顯著提高低 P/Po點(diǎn)下測(cè)試精度,2支0-1000 Torr(0-133Kpa),2支0-10 Torr (0-1.33Kpa),必須提供進(jìn)口檢測(cè)證書(shū)

壓力精度:進(jìn)口硅薄膜壓力傳感器,精度達(dá)實(shí)際讀數(shù)的0.15%,優(yōu)于全量程的0.15%,遠(yuǎn)高于皮拉尼電阻真空計(jì)精度(一般誤差為10%-15%)

分壓范圍:P/Po 準(zhǔn)確可控范圍達(dá)5x10-6-0.995

極限真空:4x10-2Pa (3x10-4Torr)

樣品類(lèi)型:粉末,顆粒,纖維及片狀材料等

測(cè)試氣體:高純N2氣(99.999%)或其它(按需選擇如Ar,Kr)

數(shù)據(jù)采集:高精度及高集成度數(shù)據(jù)采集模塊,誤差小,抗干擾能力強(qiáng)

數(shù)據(jù)處理:Windows兼容數(shù)據(jù)處理軟件,功能完善,操作簡(jiǎn)單,多種模式數(shù)據(jù)分析,圖形化數(shù)據(jù)分析結(jié)果報(bào)表

4站全自動(dòng)比表面及孔徑分布分析儀特點(diǎn)

A.比表面及孔徑分布分析儀真空系統(tǒng)

1)*的一體化集裝式管路系統(tǒng),采用進(jìn)口集裝管路,顯著減少管路連接點(diǎn),大大降低漏氣率,提高極限真空度;

2)模塊化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),一體式集裝管路,需人工進(jìn)行連接的部件少,有利于根據(jù)用戶(hù)需求按需配置及后期功能擴(kuò)展,有利于維修更換;

3)采用德國(guó)*的真空泵,噪音小,運(yùn)行穩(wěn)定,防油返功能,極限真空度高,可達(dá)4x10-2Pa (3x10-4Torr).

B.比表面及孔徑分布分析儀控制系統(tǒng)

1)采用廣泛應(yīng)用于工業(yè)控制系統(tǒng)中的可編程控制器電磁閥控制系統(tǒng),抗干擾能力強(qiáng),穩(wěn)定性大大提高,安裝及拆卸都非常方便;

2)*設(shè)計(jì)的測(cè)試系統(tǒng)管路和樣品處理管路分離結(jié)構(gòu),有效防止樣品處理過(guò)程中產(chǎn)生的雜質(zhì)對(duì)測(cè)試管路的污染.

C.比表面及孔徑分布分析儀提高測(cè)試精度措施

1)采用與同類(lèi)進(jìn)口產(chǎn)品相同品牌的高精度硅薄膜壓力傳感器,壓力測(cè)量精度為相應(yīng)讀數(shù)的0.15%,遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于0.15%的全量程精度(FS)傳感器;

2)與國(guó)外同類(lèi)產(chǎn)品類(lèi)似,采用0-10Torr和0-1000Torr雙壓力傳感器,對(duì)測(cè)試范圍內(nèi)的壓力采用分段測(cè)量,大大降低了低真空下的測(cè)量誤差,0-10Torr的硅薄膜壓力傳感器精度遠(yuǎn)高于相同量程的皮拉尼電阻真空計(jì)(一般誤差為10%-15%);

3)*的一體化集裝式管路系統(tǒng),采用進(jìn)口集裝管路,顯著減少管路連接點(diǎn),大大減少死體積空間,有利于降低測(cè)量誤差;

4)*的步進(jìn)式液氮面控制系統(tǒng),確保測(cè)試全程液氮面相對(duì)樣品管位置保持不變,*消除因死體積變化引入的測(cè)量誤差;

5)*設(shè)計(jì)的抽氣及進(jìn)氣控制系統(tǒng),有效防止樣品抽真空和進(jìn)氣過(guò)程中的飛濺,確保測(cè)試氣路的清潔和樣品質(zhì)量無(wú)損失,保護(hù)高精度壓力傳感器免受壓力巨變可能導(dǎo)致的零點(diǎn)和線性漂移.

D.比表面及孔徑分布分析儀數(shù)據(jù)采集及處理

1)采用高精度及高集成度數(shù)據(jù)采集模塊,連接方便,誤差小,抗干擾能力;采用業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)的485通訊模式,有利于設(shè)備擴(kuò)展和互連,可方便轉(zhuǎn)換為所需的RS232和USB通訊模式;

2)多種理論計(jì)算模型數(shù)據(jù)分析,為用戶(hù)提供*的材料分析方案;強(qiáng)大的測(cè)試數(shù)據(jù)歸檔保存,查詢(xún)系統(tǒng),有利于用戶(hù)數(shù)據(jù)管理.

 
 

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