目錄:先鋒科技（香港）股份有限公司>>光譜相關(guān)>>中階梯光柵光譜儀>> LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀
| 參考價(jià) | 面議 |
| 參考價(jià) | 面議 |
更新時(shí)間：2024-11-27 21:21:05瀏覽次數(shù)：5195評(píng)價(jià)
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,石油,地礦,能源 |
|---|
LIBS是Laser-Induced Breakdown Spectroscopy （激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀）的簡(jiǎn)稱，該技術(shù)通過(guò)超短脈沖激光聚焦樣品表面形成等離子體，利用光譜儀對(duì)等離子體發(fā)射光譜進(jìn)行分析，以此來(lái)識(shí)別樣品中的元素組成成分，進(jìn)而可以進(jìn)行材料的識(shí)別、分類、定性以及定量分析。
自從LIBS技術(shù)問(wèn)世以來(lái)，該技術(shù)就被*為是一種前景廣闊的新技術(shù)，將為分析領(lǐng)域帶來(lái)眾多的創(chuàng)新應(yīng)用。LIBS作為一種新的材料識(shí)別及定量分析技術(shù)，既可以用于實(shí)驗(yàn)室，也可以應(yīng)用于工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)的在線檢測(cè)；
LIBS彌補(bǔ)了傳統(tǒng)元素分析方法的不足，尤其在微小區(qū)域材料分析、鍍層/薄膜分析、缺陷檢測(cè)、珠寶鑒定、法醫(yī)證據(jù)鑒定、粉末材料分析、合金分析等應(yīng)用領(lǐng)域優(yōu)勢(shì)明顯，同時(shí)，LIBS還可以廣泛適用于地質(zhì)、煤炭、冶金、制藥、環(huán)境、科研等不同領(lǐng)域的應(yīng)用。
除了傳統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)室的應(yīng)用，LIBS還是為數(shù)不多的可以做成便攜裝置的元素分析技術(shù)，更是目前為止被認(rèn)為可以做在線分析的元素分析技術(shù)。這將使分析技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域極大地拓展到戶外、現(xiàn)場(chǎng)、甚至生產(chǎn)工藝過(guò)程中；
Spectral Industries 推出的全新時(shí)間門控LIBS測(cè)量系統(tǒng)，是一套高效，功能強(qiáng)大，通用型強(qiáng)的LIBS測(cè)量系統(tǒng)，無(wú)論在實(shí)驗(yàn)室或戶外操作，均可*應(yīng)對(duì)各種測(cè)試環(huán)境，甚至其IRIS 光譜儀可用于空間環(huán)境！
LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀具有如下特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)：
l 超高數(shù)值孔徑(F/2)：基于*設(shè)計(jì)的IRIS 中階梯光柵光譜儀的其LIBS系統(tǒng)可以獲得優(yōu)于其他對(duì)手的優(yōu)質(zhì)信噪比；
l 使用中階梯光譜儀： 兼顧高分辨率(0.1-0.4nm)及寬的光譜覆蓋范圍180-800nm,880-1100nm；
l 配備高效光學(xué)激光聚焦及信號(hào)收集系統(tǒng)：可以獲得更低的探測(cè)極限以及更短的積分時(shí)間;
l 使用優(yōu)選的全自動(dòng)控制的激光源以及3軸電動(dòng)位移臺(tái)： 軟件全自動(dòng)控制，協(xié)調(diào)工作，同時(shí)保持OEM定制靈活性；
l <10ns 精確時(shí)延抖動(dòng)： 有效避免韌致輻射背景噪聲干擾；
l 靈活小巧一體化的設(shè)計(jì)：不但適合實(shí)驗(yàn)室使用，同樣適合工業(yè)設(shè)備的集成；強(qiáng)大的設(shè)計(jì)提供非常低的溫度影響，使其能夠承受惡劣的環(huán)境，同時(shí)可任意方向安裝，以任何想要的方向來(lái)對(duì)準(zhǔn)樣品，不受場(chǎng)地及環(huán)境限制；
LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀
Spectral Industries 的全套LIBS 系統(tǒng)包括：
l IRIS 中階梯光柵光譜儀
l 納秒脈沖主動(dòng)調(diào)Q激光器
l 用于門控LIBS 測(cè)量的脈沖延遲發(fā)射器
l 激光聚焦及信號(hào)收集光學(xué)系統(tǒng)
l 自動(dòng)控制-3軸電動(dòng)位移臺(tái)
l 軟件—全硬件控制，Matlab數(shù)據(jù)處理作圖；
?
LIBS 系統(tǒng)（未包括譜儀及樣品臺(tái)）
IRIS 中階梯光譜儀
SPECTRAL LIBS 系統(tǒng)指標(biāo)參數(shù) | |
光譜儀 | IRIS UV(200-800nm)or IRIS-DUV(氮?dú)獯祾?/span>180-800nm,880-1100nm) 光譜儀 |
光學(xué)系統(tǒng) | 高效激光聚焦及信號(hào)收集光學(xué)系統(tǒng) |
激光器 | 可選擇不同單脈沖能量及頻率的 主動(dòng)調(diào)Q 納秒脈沖激光器 |
脈沖延遲發(fā)生器 | <10 ns抖動(dòng) ,100ns 時(shí)間延遲步距調(diào)整 |
位移臺(tái) | 3軸電動(dòng)位移臺(tái)，50*50mm移動(dòng)范圍；（其他尺寸可選） |
氣體吹掃 | 吹掃接口閥門適用于深紫外測(cè)試：<200nm波段； |
工作距離 | > 50-500 mm （更大距離可選） |
激光聚焦光斑尺寸 | <=100 µm |
IRIS 中階梯光譜儀參數(shù)指標(biāo) | |
光譜范圍 | 180 - 800 nm and 880-1100nm (包括吹掃選項(xiàng)) |
光譜分辨率 | 0.1 - 0.45 nm (@ 180-800 nm, for 25 µm wide slit) |
F-數(shù)值孔徑 | f/2 |
狹縫尺寸 | 25 x 100 µm2 (其他尺寸可選: 10 x 100 µm2 and 50 x 100 µm2) |
波長(zhǎng)穩(wěn)定性 | < 5 pm/K |
尺寸 | 220 x 195 x 80 mm3 (包括相機(jī)) |
重量 | 3 kg (包括相機(jī)) |
相機(jī) | CMOS 探測(cè)器 (深紫外增強(qiáng)型),積分時(shí)間28 µs – 30 s |
LIBS 系統(tǒng)元素探測(cè)極限（部分）
典型現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用案例
實(shí)驗(yàn)室礦石表面Mapping分析
--鉆孔巖心棒元素分布2D圖譜
--鋰礦巖石表面元素分布圖
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
會(huì)員.png)
15
化工儀器網(wǎng)