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OER催化效率機理研究新進展!臺式easyXAFS解析催化機理之謎

時間:2023-10-18閱讀:581
       電化學(xué)水解制氫氣是當(dāng)今一項非常流行且高效的綠色能源生產(chǎn)技術(shù),作為常用電解水催化材料,非貴金屬過渡金屬材料的研發(fā)與測試在此背景之下有著廣泛的關(guān)注度。近期的研究表明高價態(tài)的過渡金屬離子可以提供氧缺陷位點來降低電荷轉(zhuǎn)移能量,從而大大提高氧析出反應(yīng)(OER)效率。然而,高價態(tài)的過渡金屬離子如Ni4+和Co4+往往面臨著形成能高和靜息狀態(tài)下熱力學(xué)不穩(wěn)定等問題。

       太原理工大學(xué)和新南威爾士大學(xué)通過重構(gòu)和電子結(jié)構(gòu)調(diào)制生成具有高氧化性和穩(wěn)定性的新型電催化材料NiFeOOH(如圖1所示)。在水合NiMoO4前驅(qū)體催化劑中引入FeB,重構(gòu)反應(yīng)過程中形成了穩(wěn)定的Ni4+和活性氧,使Ni-O共價體系含量提高,提高了晶格氧的反應(yīng)活性,從而切換了反應(yīng)路徑,降低了OER的反應(yīng)能壘。此種材料在10 mA cm-2和100 mA cm-2下分別具有166和213 mV的超低過電位,在1000 mA cm-2的超高電流密度下具有高穩(wěn)定性(>100 h)。這項工作為合理設(shè)計高價金屬和活化晶格氧的電催化劑材料在大電流密度下實現(xiàn)OER穩(wěn)定反應(yīng)奠定了基礎(chǔ)。
 
圖1.   新型穩(wěn)定的Ni4+結(jié)構(gòu)示意圖

       本文中,作者利用了美國easyXAFS公司的臺式X射線吸收譜儀系統(tǒng)easyXES150,在室溫條件下使用Si(551)晶體測試了Ni元素的K邊X射線吸收譜。如圖2(g) 展示了X射線吸收譜圖的近邊吸收結(jié)構(gòu)(XANES),NiFeOOH中與1s到4p躍遷相關(guān)的白線峰在8352.66 eV處達到峰值(高于NiOOH),這說明NiFeOOH中Ni的平均氧化態(tài)高于NiOOH,NiFeOOH中形成了更多的Ni4+。同時,由于4p軌道的離域,NiFeOOH出現(xiàn)向低能區(qū)偏移、峰展寬和邊緣躍遷強度的增加(即1s→4p),這表明Ni-O共價鍵性的增強。圖2(h) 展示了擴展邊X射線吸收譜精細(xì)結(jié)構(gòu)譜(EXAFS)的傅里葉變換,在R空間可以看到Ni-O鍵長在NiFeOOH中相比于在NiOOH中有所縮短,Ni-O散射路徑的鍵長從1.98減小到1.85 ?(表S6),進而證明了合成產(chǎn)物中Ni-O共價鍵的增多。Ni-O散射路徑的偏移是由于NiOOH和NiO2相的不同比例導(dǎo)致NiOOH和NiFeOOH中局域配位環(huán)境的不同。通過對NiFeOOH的XAFS精細(xì)結(jié)構(gòu)表征發(fā)現(xiàn),將NiO2中摻雜Fe的結(jié)構(gòu)設(shè)計增加了四價態(tài)Ni的產(chǎn)生,從而形成更多的Ni-O共價體系來促進晶格氧的活化。
 
圖2:   (a)NiMoO/FeB, (b)NiMoO原位拉曼譜圖,(c)CV掃描曲線圖,(d) NiMoO/FeB和NiMoO原位拉曼譜圖的Iδ/ν分析,(e)拉曼譜圖,(f)O1s的XPS譜圖,(g)Ni元素K邊近邊吸收譜,(h)擴展邊X射線吸收譜精細(xì)結(jié)構(gòu)的傅里葉變換

       該項成果以‘Stable tetravalent Ni species generated by reconstruction of FeB-wrapped NiMoO pre-catalysts enable efficient water oxidation at large current densities‘為題目發(fā)表在國際期刊Applied Catalysis B: Environmental 上。

臺式X射線吸收譜儀系統(tǒng)-XAFS/XES


       美國easyXAFS公司的臺式X射線吸收譜儀系統(tǒng)-XAFS/XES得益于出色的單色器設(shè)計,無需同步輻射光源,可以在常規(guī)實驗室環(huán)境中實現(xiàn)X射線吸精細(xì)結(jié)構(gòu)譜(XAFS)和XES雙功能測試,二者相輔相成,信息互補,用于獲取全軌道的電子結(jié)構(gòu)以及原子結(jié)構(gòu)信息。該臺式設(shè)備幫助廣大科研人員擺脫對同步輻射X射線光源的依賴,極大地提高了XES和XAFS表征技術(shù)在能源、催化、環(huán)境等各領(lǐng)域的大范圍應(yīng)用。
 
圖3. 美國臺式X射線吸收譜儀系統(tǒng)easyXAFS300+

臺式X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜儀-XAFS/XES測試數(shù)據(jù)展示:

       近期,QD中國北京樣機實驗室測試了低質(zhì)量含量的Pt、Cu樣品,結(jié)果表明,臺式X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜儀在測試1 wt%級別的低含量元素時也可獲得與同步輻射光源數(shù)據(jù)高度吻合的優(yōu)質(zhì)譜圖,可為單原子催化劑等領(lǐng)域的研究提供有力支持。

1 wt% Pt@Al2O3



0.9 wt% Cu@CBN
 


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