一、上海大型鹽霧試驗箱/步入式鹽霧試驗室產(chǎn)品名稱及型號

1.1產(chǎn)品名稱

步入式鹽霧試驗室

1.2產(chǎn)品型號

BRS-YWS-6.4S

1.3數(shù)量

1臺

1.4重量

約：1.0T

二、上海大型鹽霧試驗箱/步入式鹽霧試驗室概述

2.1產(chǎn)品應用

本鹽霧腐蝕試驗箱可以用來考核材料及其防護層的抗鹽霧腐蝕的能力，以及相似防護層的工藝質(zhì)量比較，也可以用來考核某些產(chǎn)品抗鹽霧腐蝕的能力。

2.2產(chǎn)品特點

2.2.1該設備是全新的，試驗系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設計合理，制造工藝規(guī)范，為自主開發(fā)研制的產(chǎn)品，具有的產(chǎn)品，外觀美觀、大方。

2.2.2用于制造本設備的材料為耐腐蝕型進口PP塑料板材，不影響試驗結(jié)果。本設備設計工作中內(nèi)外壓力平衡，鹽霧不會直接噴到樣品上。而且設計考慮到設備的頂部，內(nèi)壁及其它部位會有冷凝水的產(chǎn)生，因而，本設備在試驗過程中，冷凝水不會滴落到樣品上影響試驗結(jié)果。

2.2.3設備具有良好的操作性、維護性、良好的溫度穩(wěn)定性及持久性、良好的安全性能、*及危害人身健康。

2.2.4設備另附國家標準規(guī)定的試驗溶液配制方法。

2.3基本工作原理

鹽霧腐蝕試驗箱由電熱控溫,加熱至標準所需溫度,鹽溶液以連通器的原理進行補給,氣體通過加熱的飽和桶由噴嘴噴出,達到霧化鹽溶液的目的，以檢測試件的抗腐蝕能力。

2.4滿足標準

本鹽霧腐蝕試驗設備按GB2423.17-2000標準進行設計制造，可進行各種鹽霧腐蝕試驗。

三、主要技術參數(shù)

3.1工作室尺寸

2600×1450×1800mm(深×寬×高)，

3.2外形尺寸(約)

2900×1600×2800mm(深×寬×高)不包含電器控制柜及試驗室的水路氣路系統(tǒng)

3.3溫度范圍

35℃~65℃

3.4濕度范圍

90～98%R·H (鹽霧時、不可控)

3.5空氣飽和器

RT＋10℃ ～ 70℃

3.6溫度偏差度

≤±2℃（空載時）

3.7溫度波動度

≤±0.5℃（空載時）

3.8噴霧沉降量

1~2ml / 80cm2 .h

3.9試驗時間

0～9999  H、M、S（可調(diào)）

3.10底座承受重量

1T/m2 

3.11噴霧方式

氣流噴霧式，連續(xù)/間隙任意。

3.12周期時間

0～999  H、M、S（可調(diào)）

3.13功率（約）

15KW

3.14電源

三相五線380V 50HZ

以上產(chǎn)品運行技術數(shù)據(jù)均在室溫20±5℃，相對濕度≤85%R.H，工作室空載的條件下測得。

四、箱體結(jié)構(gòu)設計簡介

（一）工作原理及結(jié)構(gòu)：

鹽霧試驗室組成：試驗室室體

1、供氣系統(tǒng)　　                       2、鹽溶液補給系統(tǒng) 

3、噴霧系統(tǒng) 　　                      4、壓力平衡及排霧排水系統(tǒng) 

5、快速排霧裝置                       6、控制及執(zhí)行系統(tǒng)　

7、安全保護系統(tǒng)執(zhí)行系統(tǒng) 

8、電器控制柜設計在試驗室的右端，尺寸約：500*350*1700 水氣路系統(tǒng)尺寸約：1000*2000*1250設計安裝在試驗室的后端   設計噴嘴十只。

9、單開門洞尺寸：900*1700mm

（二）試驗室室體結(jié)構(gòu)

試驗室由PP板拼裝焊接組成，它直接構(gòu)成了一個密封的試驗空間，箱體能自動保溫在規(guī)定的溫度范圍內(nèi)，同時能滿足噴霧裝置的布置、氣路、鹽水補給管路、濕熱溫濕度循環(huán)和溫度傳感器及排霧位置要求。由于鹽霧試驗時，有較高的溫度（35℃），還有較強的腐蝕性，因此制造鹽霧試驗箱箱體的材料應有一定的抗腐耐溫性能。為了達到耐腐蝕、易清洗、耐溫度、有一定強度的需要。本室體內(nèi)膽材料為PP聚丙乙烯板材，外壁材料也為PP聚丙乙烯板材。根據(jù)室體的長、寛、高按一定的尺寸在制造廠方預先做好組合室體及箱體骨架。預埋底部試件承重框架及溫濕度試驗循環(huán)風道的組裝。鹽霧試驗規(guī)定噴霧形成的水滴不應滴落在試驗件上，試驗室頂?shù)膴A角要有一定的角度，一般在110º～120º之間。而使形成的液滴沿著頂流到試驗室的兩側(cè)。整個室體需進行漏水、漏霧等處理。

（三）主體部分

1、室體底座采用承重鋼焊接成網(wǎng)式框架，以便于在水平條件下能承受每平米大于1噸的試件重量，而不產(chǎn)生室體底面凹凸不平及開裂等。

2、室體分為六個室體面及一扇單開式室體大門,室體材料為內(nèi)膽高強度PP塑料板,外膽為PP塑料板，大門材料為PP塑料板制成,大門拉手為內(nèi)外開啟式,以便于試驗人員從封閉的室內(nèi)自由開啟大門;

3、整體結(jié)構(gòu)：試驗室體內(nèi)部含有鹽霧霧化系統(tǒng)、溫濕度循環(huán)系統(tǒng)、試件支撐放置裝置；試驗室外部右側(cè)為控制系統(tǒng)及鹽霧飽和裝置、鹽溶液存儲輸送裝置， 后部為溫濕度試驗的加濕裝置及循環(huán)裝置。

4、管路接口排布：在臺架后部墻體外側(cè)下部，離地距離800mm左右，分布一根主管路，再分成多支路伸入步入室內(nèi)，左右室各設計支路，各支路的室內(nèi)部分末端為接口（即共有N個接口，接口待定），各支路以編號作標識。每一支路室外部分均需配 備手動截止閥，在截止閥到管路末端接口部分管路上的墻外部分，布置壓力 傳感器（或為壓力開關，依據(jù)買方設計確定）。管路需采用不銹鋼管，規(guī)格 依據(jù)買方的既有規(guī)格（耐壓要求為20Bar）

12、輔件的布置：試劑加注裝置及空壓機等裝置，需內(nèi)置，不得外露

13、頂部板和四側(cè)壁：鹽霧步入室頂板和側(cè)壁結(jié)構(gòu)確保無積液直接滴落在試件上

14、壓力平衡：步入室需設置內(nèi)外部壓力平衡孔，排氣時不應使工作空間的氣流過于湍流

16、門應密封可靠，杜絕漏氣和有鹽溶液溢出

17、報警：在臺架的適當位置布置三色燈和報警蜂鳴器

（四）控制功能描述

1、系統(tǒng)可設定內(nèi)容  

A.鹽霧步入室溫、濕度

b.循環(huán)描述（每一個循環(huán)的噴霧時間，溫濕度時間）

c.循環(huán)總時間

d.組別設定：將若干個同類產(chǎn)品編為一組，可設定若干組

e.試驗標準號

 2、屏幕顯示內(nèi)容

   A.鹽霧步入室溫濕度，飽和溫度

b.實驗條件(循環(huán)模式、試驗總時間要求）

3、操作界面：操作界面為中文顯示，由我方依據(jù)屏幕可顯示情況自行決定

五、供氣系統(tǒng)

5.1

空氣壓縮機    —   初級油水分離器  —  貯氣罐  —  減壓閥  —總電磁閥 

 —   二級油水分離器  —  調(diào)壓閥  —  飽和器  — 噴霧電磁閥  —  噴嘴

本試驗室采用氣流式噴霧，因此要有供氣系統(tǒng)。供氣系統(tǒng)的作用就是連續(xù)供給鹽霧試驗室所需壓力的新鮮空氣。本系統(tǒng)需配置一臺低噪音空氣壓縮機作供氣氣源，外購壓縮空氣貯氣罐一個，以儲存氣體，以免直接供氣影響壓縮機的壽命，并可根據(jù)需要即時供氣。環(huán)境大氣經(jīng)空氣壓縮機壓縮成高壓空氣后進入貯氣箱。

5.2

.為了保障進入噴咀的空氣為潔凈帶濕度的熱空氣,需將壓縮機產(chǎn)生的氣體進行油水分離,為達到分離干凈,分二次分離,第二級為精細型過濾,放在進入飽和器前的位置,做到盡大的能力除油污;

5.3

由于噴霧壓力只需0.07~0.14Mpa，過濾后的空氣需進行二級減壓，*級將空氣減至0.2~0.3 MPa，第二級根據(jù)霧量的大小，調(diào)至0.07~0.14MPa，以使經(jīng)噴咀噴出的噴霧壓力在規(guī)定的范圍之內(nèi)。

5.4

鹽霧試驗規(guī)定進入試驗室的空氣要有一定的溫度和濕度，因此在壓縮空氣進入室體前增加一套加熱加濕裝置，即飽和器。 飽和器溫度值受主控制板控制，根據(jù)不同的環(huán)境溫度及室試驗和噴霧壓力、溫度進行調(diào)整。飽和器為一受壓容器，耐壓≥6Kg，用不銹鋼制作，飽和器裝有電熱管。筒內(nèi)裝去離子水，設有水位計、進水閥、排氣閥、排污閥、傳感器測試孔等。三通接頭一頭接通往噴咀的管路，一頭接壓力表。壓縮空氣進入飽和器后通過去離子水或蒸流水，再次進行過濾。而后與筒內(nèi)去離子水或蒸流水產(chǎn)生的水蒸汽混和，以使進入噴咀的空氣為接近箱內(nèi)試驗溫度、潔凈濕潤的空氣。  供氣系統(tǒng)的管道材料這耐壓PP管。所有暴露在空氣中的管道以及埋在外層框架的管道均需用不同的保溫材料進行保溫。

5.5

飽和器內(nèi)水的補充：由于經(jīng)飽和器內(nèi)流出的空氣是濕熱空氣，會帶走一部分水蒸氣，長時間工作會不斷地消耗水，需要定時補充水，此外，由于噴霧狀態(tài)下，飽和器內(nèi)有壓力，進不去水，就得暫時停止供氣，進水也非常緩慢，在此情況下需：在飽和器上設置二支電磁閥。其中一支為進水電磁閥，另一支為出氣（通氣）電磁閥，進水時二支電磁閥同時打開。

六、鹽水補給系統(tǒng)：

6.1

氣流噴霧要連續(xù)進行，鹽水的連續(xù)自動補給是*的。鹽水補給系統(tǒng)就是為達到這一目的而設置的，鹽水箱一般都放在室體上部，如不進行適當?shù)目刂疲贷}水很快流光，要么就會供不上噴霧的需求。

6.2

為了保持一定的虹吸高度，需要將鹽水虹吸水位保持在高度范圍內(nèi)。配置好的鹽溶液貯存在一塑料容器內(nèi)，靠流量泵打到鹽水補給容器內(nèi)，該鹽水補給容器布置在外層框架上，靠自動液位控制器指揮流量泵工作。將水位上下限保持在10mm以內(nèi)?？傒敵隽客ㄟ^流量傳感器反饋至微機測控系統(tǒng)，為了符合試驗要求，擬在各個噴嘴供水管路上各配一組流量調(diào)節(jié)及流量計、調(diào)節(jié)與顯示進入噴嘴的流量。

6.3

為了使進入噴咀的鹽溶液溫度與室內(nèi)溫度接近，需在鹽水補給箱內(nèi)加裝加熱器，由于鹽水的腐蝕性能及要求較高的溫度，鹽水補給容器PP塑料制的容器，并加以保溫管保溫，用的溫度控制器來控制，也可以用微機主控來控制。可以符合使用要求。

七、噴霧系統(tǒng)：

7.1

噴霧裝置的功能就是將鹽水補給系統(tǒng)送來的鹽水利用氣源系統(tǒng)供給的高壓空氣從噴咀中高速噴射時產(chǎn)生的引射作用，通過虹吸原理將鹽水吸上來噴出去成迷散的霧狀，由于霧中含有一些未霧化的水滴，所以噴出的物狀氣流不能直接引入到試驗室體，而應先打到一個鹽霧擋板上，將未霧化的水滴打碎成霧或?qū)⑵鋼趸貋?，使噴出的霧是真正不含水滴的細霧，以滿足鹽霧試驗所規(guī)定的鹽霧直徑范圍內(nèi)的要求。鹽水沉降量的大小直接與鹽水補給和氣源供氣壓力的高低、擋板的角度有關。

7.2

氣流成霧裝置可細分成3種形式，其工作原理差不多，但噴嘴角度和鹽霧擋板安裝位置不太一樣。反射式成霧形式是將擋板放在頂部，噴出的物狀氣流打在擋板后，再返回試驗空間（行業(yè)名稱：反射式噴霧）。折射式的擋板就放在鹽霧噴嘴前面，與反射式形式不同，是朝向試驗空間的，它利用擋板的抬升角度，將物狀氣流抬升到鹽霧試驗箱的頂部再自由沉降（行業(yè)名稱：擋板式噴霧）。噴霧塔形式則是結(jié)合了反射式和折射式的特點，噴嘴垂直向上，鹽霧擋板角度定死，無法調(diào)節(jié)，噴嘴噴出的鹽霧打在擋板上來后，未霧化的鹽水滴由于自重原理，落回到噴霧塔內(nèi)，已霧化的鹽霧則通過噴霧塔的出口逸出。以上三種為國內(nèi)使用的三種方式，在國外有此不同。由于國外有此國家的標準與國內(nèi)不同，比如德國標準。標準中所使用的噴咀與國內(nèi)也不同。由于室體比較高大，塔式噴霧和反射式噴霧受標準條件限制不適合該試驗室。用擋板式噴霧比較合適。

八、排水及排污壓力平衡系統(tǒng)：

8.1

噴霧過程中鹽溶液采用抽氣排放，速度快。為了保護室體底部，防止老化，在底部上人為地留一薄層水是必須的。但超過一定高度就必須及時地排出室體。排水管與排霧管可有機地結(jié)合起來，通過一個通道既排出鹽霧又排出積水，同時又可保持壓力平衡，終排霧口應遠離試驗室。

九、快速排霧裝置： 

9.1

試驗結(jié)束后，室體內(nèi)尚有大量鹽霧存在，短時間內(nèi)不能全部沉降或排出室外。為了方便試驗人員盡早進入室體，本室設計有一套快速排霧裝置，在15分鐘內(nèi)可將室內(nèi)的鹽霧排除。

十、安全保護系統(tǒng)執(zhí)行系統(tǒng):

10.1、

室體加溫低水位保護

11.2、

鹽水低水位保護

12.3、

飽和器低水位保護

13.4、

飽和器超溫保護

14.5、

試驗結(jié)束指示

15.6、

快速排霧指示

16.7、

壓縮氣體兩級穩(wěn)壓調(diào)壓保護

17.8、

過載、漏電具有自動關機等保護

22.13、

噴霧保護 ：當有人員在步入室內(nèi)時，系統(tǒng)不得啟動噴霧程序

十三、主機和隨機附件及試驗軟件：

13.1產(chǎn)品合格證

1張

13.2產(chǎn)品使用說明書

1套

13.3電氣原理圖

1套

13.4儀表使用說明書

1套

13.5保修卡

1份

13.6電源線

五芯（三相四線+保護地線）電纜1條（約3米長）

十四、設備使用條件

14.1電源

AC 380V±10%、50 Hz、三相四線+接地線

14.2環(huán)境溫度

5～32℃

14.3環(huán)境濕度

≤85%R.H

14.4安裝布置尺寸

A：≥800m；B：≥1500mm；C：≥800m；D：≥800mm；E：≥500mm

14.5環(huán)境條件

設備現(xiàn)場周圍無振動、無強電磁場干擾、無高濃度粉塵及腐蝕性物質(zhì)、無陽光直接照射或其它熱源直接輻射。

14.6場地要求

設備應水平放置于通風良好的試驗室內(nèi)，周圍應留有充足的空間供操作及維護之用；