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　　光譜儀用于測量光的光譜功率分布，廣泛應用于顏色測量、元素鑒定、化學分析等領域。雜散光水平是光譜儀中的一個重要參數(shù)。所謂雜散光是指錯誤波長（非對應的信號光波長）的光輻射照射到探測器像素上所產(chǎn)生的信號。該參數(shù)對于光譜儀的所有應用都非常重要。低雜散光光譜儀是一種高靈敏度的面陣探測器，是一種理想的高性能光譜測量產(chǎn)品。得益于更寬的線性工作范圍，特別適用于透射和吸光度檢測。超低雜散光和高靈敏度的結合也使顏色測量更快。
 
 

　　雜散光大大減少，提高了機械和溫度穩(wěn)定性。低雜散光光譜儀新型光學平臺內(nèi)置雙模消除器和多級復合拋物面鏡，雜散光降低至0.04%。除了顯著改善雜散光外，新的光學平臺還將光譜儀的機械強度提高了10倍以上，使其不再對機械畸變和溫度變化敏感。這個新的光學平臺有兩個光圈和多個光阱，可以將雜散光抑制到0.04%，比普通的光譜儀好2.5倍。新的光學平臺不僅改善了雜散光，還大大提高了機械剛度，將微彎和溫度漂移的影響降低了10倍。

　　1、特別適用于需要測量高吸光度的應用，例如高化學濃度、高光密度光學元件和長光程測量。這種新的光學平臺和光譜儀適用于OEM應用和單一儀器應用。

　　2、具有低雜散光（0.015%at400nm）效果和良好的測色效果，提高了低照度下的測量靈敏度和處理效果。

　　3、低雜散光光譜儀具有優(yōu)異的熱穩(wěn)定性，其性能可與科研光譜儀相媲美，可應對各種應用挑戰(zhàn)。

　　4、在環(huán)面的光學結構中，我們采用了可變間距凹面光柵，使分束系統(tǒng)更有效光柵的中心刻線密度為550（±2）條刻線/mm，標稱閃耀波長為400納米。