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　　目前市場上光纖光譜儀種類繁多，選擇一款適合的光纖光譜儀至關(guān)重要。光纖光譜儀提供的設(shè)備在市場上一直在顯微光譜分析領(lǐng)域具有良好的口碑。如果您擁有光學(xué)顯微鏡，那么進(jìn)行顯微光譜分析簡單的方法就是配備標(biāo)旗光纖光譜儀的顯微鏡-光纖適配器對譜儀和顯微鏡進(jìn)行整合同時配合標(biāo)旗光纖光譜儀開發(fā)的定制軟件。然后，您就能輕輕松松的用顯微鏡和整合好的光纖光譜儀系統(tǒng)對樣品進(jìn)行信號分析。

　　制絨過程:

　　制絨是將電池片表面刻蝕或腐蝕成不規(guī)則的粗糙表面。由于入射光在電池片表面多次反射和折射、增加了光的吸收，提高了電池片的短路電流和轉(zhuǎn)換效率。此時，可以利用測量反射率來衡量電池片的制絨效果。一般來說，在制絨完成后，電池片的反射率在35%左右。

　　清洗過程:

　　在制絨過程后，需要對電池片表面進(jìn)行一般的化學(xué)清洗。清洗后還要進(jìn)行脫水處理。此時，可以利用測量反射率來衡量電池片清洗效果。

　　封裝過程

　　在組件的表面需要封裝上玻璃，起到保護(hù)電池組件的作用。現(xiàn)在一般使用增透型的壓花玻璃進(jìn)行封裝。壓花玻璃的透過率將直接影響電池組件的發(fā)電效率。因此，需要使用壓花玻璃透過率儀對封裝的壓花玻璃透過率進(jìn)行檢測。

　　PECVD過程

　　為了進(jìn)一步減少表面反射，提高電池的轉(zhuǎn)換效率，需要沉積一層SiN(氮化硅)減反射膜?，F(xiàn)在工業(yè)生產(chǎn)中常采用PECVD設(shè)備制備減反射膜。PECVD即等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積。它的技術(shù)原理是利用低溫等離子體做能量源，樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電使樣品升溫到預(yù)定的溫度，然后通入適量的反應(yīng)氣體SiH4和NH3，氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng)，在樣品表面形成固態(tài)薄膜，即氮化硅薄膜。在反應(yīng)過程中，可以使用高分辨的等離子體監(jiān)控儀進(jìn)行等離子體反應(yīng)的原位監(jiān)控。一般情況下，使用PECVD方法沉積的薄膜厚度在70nm左右。完成PECVD鍍膜后，需要使用橢偏儀和反射率儀綜合衡量電池片的膜厚和反射率

　　測試過程

　　為了衡量電池組件的發(fā)電效率，需要使用太陽光模擬器照射進(jìn)行發(fā)電效率的測試。太陽光模擬器一般使用特殊的脈沖氙燈光源。由于脈沖氙燈光源具有使用壽命，因此，為了獲取準(zhǔn)確的效率數(shù)據(jù)，需要對太陽光模擬器的輻射情況進(jìn)行檢測。