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金屬含量分析儀器
  • 金屬含量分析儀器

貨物所在地:廣東深圳市

地: 深圳市

更新時間:2024-11-19 15:03:47

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金屬含量分析儀器
分析金屬成分儀器設(shè)備
能測試Mg, Al, Si, P等元素,能識別全系列的39種鋁合號,測試合金種類鐵合金系列、鎳基合金系列、鈷基合金系列、鈦基合金系列、銅基系列、6. 溫合金、鉬鎢合金、鋁合金、混雜合金系列等
X射線光譜金屬成分分析儀已經(jīng)被廣泛應用于地質(zhì)、采礦、金屬元素(合金材料、鋼鐵成分)、土壤、環(huán)境、考古、木材、電子、醫(yī)藥、環(huán)保等等

金屬含量分析儀器

儀器介紹:

    手持式儀器資料:

合金分析儀技術(shù)規(guī)格

 

項目

(標準型)合金分析儀Innov-X Delta

尺寸與重量

外形尺寸:245x250x88mm;重量<1.5KG

環(huán)境要求

環(huán)境濕度0~95%;環(huán)境工作溫度-20 ~50℃;亮黃 黑色、銀白色相間

激發(fā)源

大功率微型直板電子X射線管,內(nèi)置15kV~40kV多段可選擇的電壓;無壓電纜、無射頻噪聲、更好的X射線屏蔽、更好的散熱。

射線管靶材

AuAg

X射線探測器

標準型SDD硅漂移探測器

濾波器

八個濾光片可自動切換

光譜束

兩個光束段,不同的元素采用不同的電壓與電流,生好的分析效果

智能接駁座

可對額外電池充電、儀器內(nèi)置電池同時充電并顯示充電進度,接駁座能連接電腦交換數(shù)據(jù),可讓儀器即時標準化,儀器隨時待命狀態(tài)

開機換電

儀器即使在開機狀態(tài)下也可更換電池而并不需要關(guān)機,時間可達30

標準化

儀器開機并不需要標準化,可以直接測試,標準化僅僅是可選項

平衡性

儀器具有很好的平衡性,在測試時能立于工作臺上,無需手扶,一鍵式按鈕設(shè)計,即使長時間操作也無疲勞感

散熱性

超過1/3的機體采用鋁合金外殼設(shè)計,儀器頂部有的槽式散熱裝置,整個體系使散熱非常有效,延長機器壽命, X射線分析儀工作更加更穩(wěn)定,從而故障率極低

顯示器固定方式

一體機設(shè)計,整機連體構(gòu)造,PDA不可拆卸,可防塵,防霧,防水,故障低

數(shù)據(jù)顯示

百分比(%)顯示元素含量,元素顯示順序可按能量、濃度值、用戶自定義等方式排序,可統(tǒng)計多次測試的平均值,可接臺式電腦顯示;儀器在測試過程中同步動態(tài)顯示化學成份

數(shù)據(jù)存儲

ROM128MRAM128M、2G SD卡,可存儲205000組數(shù)據(jù)與光譜

數(shù)據(jù)傳輸

USB電纜、無線藍牙進行數(shù)據(jù)傳輸,文件可采用TXT,EXCEL格式輸出。

處理器CPU

532MHz CPU 、Freescal,ARM1136-MX31處理器,浮點運算方式,速度大幅提

系統(tǒng)CPU外設(shè)

采用USB總線, I2C,GPIO, 藍牙加速器,實時的時鐘芯片,微型SD 存儲卡 (可存儲2GB 數(shù)據(jù)),GPIO 條帶連接到 機和PSM

操作系統(tǒng)

用戶化 windows CE 6.0系統(tǒng)

Alloy Beam1模式

, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, W, Hf, Ta, Re, Pb, Bi, Zr, Nb, Mo, Ag, Sn, Sb21元素

Alloy Beam2模式

, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, W, Hf, Ta, Re, Pb, Bi, Zr, Nb, Mo, Ag, Sn, Sb PLUS Mg, Al, Si, P25元素

合金建模方式

基本參數(shù)法,儀器在分析合金前不需要預先知道合金種類,實現(xiàn)全自動分析

合金種類

鐵合金系列、鎳基合金系列、鈷基合金系列、鈦基合金系列、銅基系列、6. 溫合金、鉬鎢合金、鋁合金、混雜合金系列

合號

內(nèi)置合號351種,用戶可自定義300種合號,能同時分析的合金651種,能分析的合金達萬種,

小樣品測試

不規(guī)則或小型樣品的補償性測試方法能檢測很小或很少的樣品,如直徑為0.04mm的細絲也能立即辨認

鋁合金

能測試Mg, Al, Si, P等元素,能識別全系列的39種鋁合

直讀光譜儀資料:

   這款CMOS光譜儀,既包含了CCD光譜儀的全譜特性,又具備PMT光譜儀對非金屬元素的極低檢出限,整機設(shè)計合理,操作簡單易學,具有數(shù)據(jù),長期穩(wěn)定性好等優(yōu)點。

應用領(lǐng)域

冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。

可檢測基體

鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

主要技術(shù)參數(shù)

v  光學系統(tǒng):帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)

v  波長范圍:140~680nm

v  光柵焦距:401mm

v  探 測 器:性能CMOS陣列/CCD陣列

v  光源類型:數(shù)字光源,能預燃技術(shù)(HEPS)

v  放電頻率:100-1000Hz

v  放電電流:大500A

v  工作電源:AC220V 50/60Hz 1000W

v  檢測時間:依據(jù)樣品類型而定,一般20S左右

v  電極類型:鎢材噴射電極

v  分析間隙:4mm

v  其他功能:真空,溫度,軟件自動控制;壓力,通訊監(jiān)測

主要特點

v  性能光學系統(tǒng)

采用精度的CMOS元件可測定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量;測定結(jié)果,重復性及長期穩(wěn)定性hao。

v  自動光路校準

v  插拔式透鏡設(shè)計

真空光學系統(tǒng)采用*的入射窗與真空隔離,可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進行操作,光學透鏡采用插拔式透鏡結(jié)構(gòu),日常清洗維護方便快捷。

v  真空防返油技術(shù)

v  開放式激發(fā)臺

開放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設(shè)計,以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析;配合使用小樣品夾具,線材低分析可達到3mm。

v  噴射電極技術(shù)

v  集成氣路模塊

v  數(shù)字化激發(fā)光源

v  速數(shù)據(jù)采集

儀器采用性能CMOS檢測元件,具有每塊CMOS單獨超速數(shù)據(jù)采集分析功能,并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)。

v  以太數(shù)據(jù)傳輸

v  多基體分析

v  軟件中英文系統(tǒng)

儀器軟件操作簡單,*兼容于Windows7/8/10系統(tǒng)。

金屬含量分析儀器

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