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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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您現(xiàn)在的位置: 首頁> 供求商機> 2035/2050/2075/2100-光刻膠SU-8 2000

勻膠機/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機

狹縫涂布儀

烤膠機/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機

紫外固化機/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機

等離子清洗機

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    鈣鈦礦界面材料

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    蒸發(fā)器

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    剝離器

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    干燥箱

    霍爾效應測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    公司信息

    聯(lián)人:
    葉盛
    話:
    4008800298
    機:
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
    編:
    化:
    www.mycro.net.cn
    址:
    www.mycro.cn
    鋪:
    http://www.syzwkj.com/st119375/
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    [供應]2035/2050/2075/2100-光刻膠SU-8 2000
    2035/2050/2075/2100-光刻膠SU-8 2000
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時間:
    2024-11-15 09:57:44
    有效期:
    2024年11月15日--2025年11月16日
    已獲點擊:
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    【簡單介紹】SU-8 2000是一種高對比度,基于環(huán)氧的光致抗蝕劑,設計用于微加工和其他微電子應用,需要厚,化學和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方,多年來已被MEMS生產商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質量并提高工藝產量。 SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現(xiàn)0.5至> 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。
    【詳細說明】

    為了獲得大的過程可靠性,在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前,基材應清潔干燥。 為了獲得很好的結果,應使用食人魚濕法蝕刻(使用H2SO4和H2O2)清潔基材,然后用去離子水沖洗。

    基材也可以使用反應離子蝕刻進行清潔

    (RIE)或任何裝有氧氣的桶式灰燼。 通常不需要粘合促進劑。 對于包括電鍍的應用,建議使用MCC Primer 80/20(HMDS)對基材進行預處理。

    涂層

    SU-8 2000抗蝕劑有十二種標準粘度。 本加工指南文件涉及四種產品:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050和SU-82075。圖1。

    提供選擇合適的SU-8 2000抗蝕劑和旋轉條件以實現(xiàn)所需膜厚所需的信息。

    推薦節(jié)目

    1.)為基板直徑的每英寸(25毫米)分配1ml的抗蝕劑。

    2.)以100 rpm /秒的加速度在500 rpm下旋轉5-10秒。

    3.)以300 rpm /秒的速度在2000 rpm下旋轉30秒。



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