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晶圓顯影清洗機SD12具有晶圓顯影機和晶圓清洗機的雙重功能，晶圓顯影清洗機是先進的液體旋轉(zhuǎn)工藝系統(tǒng)，內(nèi)嵌多種溶液分配模塊，例如高壓噴淋（壓力最大120bar）。該晶圓顯影清洗機可滿足12英寸（300mm）圓片、9英寸×9英寸（230毫米×230毫米）方形基片和掩模的工藝需求，包括NMP剝離、顯影（包括丙酮及其它溶液）、光刻膠去除和和清洗等應(yīng)用環(huán)境。該晶圓顯影清洗機也可以處理易碎的基片（例如磷化銦和砷化鎵），并擁有良率。
晶圓顯影清洗機具有良好的靈活性
晶圓顯影清洗機通過使用優(yōu)化的卡盤處理多種不同類型的晶圓,甚至脆的襯底（例如InP、GaAs）也可以安全地處理。特殊工具和廣泛的易于調(diào)整的工藝參數(shù)使晶圓顯影清洗機適用于涉及溶劑介質(zhì)的許多工藝應(yīng)用。借助編程參數(shù)（如步進時間、旋轉(zhuǎn)速度、加速度和減速度、分配臂位置和旋轉(zhuǎn)運動）的能力.
晶圓顯影清洗機具有良好的溶液分配技術(shù)
晶圓顯影清洗機為不同的工藝需求提供了廣泛的分配技術(shù)。可以運行多種工藝：從簡單的水坑或噴霧顯影到剝離，除了用于浸泡和最終沖洗的水坑分配外，還需要高壓來剝離抗蝕劑和金屬。還可以執(zhí)行特殊應(yīng)用，例如從安裝在帶架上的晶片上清潔粘合劑，這些應(yīng)用可能需要使用超聲波傳感器來獲得最佳清潔效果?？梢栽?strong>晶圓顯影清洗機的分配臂處配置上述所有分配技術(shù)。
基于溶劑的智能介質(zhì)系統(tǒng)
專為處理溶劑基介質(zhì)的特殊需要而定制。所有與工藝化學品接觸的零件均由不易受影響的材料制成。排水管可以連接到房屋排水管或廢物罐。
溶劑介質(zhì)安全存儲在配有排氣連接的介質(zhì)存儲裝置中，并由溶劑泄漏檢測器和氣體傳感器固定。流量控制系統(tǒng)和壓力調(diào)節(jié)器管理介質(zhì)?？蛇x地，可以控制介質(zhì)溫度以確保最佳工藝結(jié)果。可以安裝介質(zhì)再循環(huán)系統(tǒng)，以減少總體介質(zhì)消耗。
易于維護和操作
晶圓顯影清洗機SD12易于操作和維護。只需按下一個按鈕，即可調(diào)用工藝參數(shù)和介質(zhì)數(shù)據(jù)?？删幊膛浞郊涌炝斯ぷ髁鞒蹋龠M了重復(fù)性。所有零件都易于接近，便于操作和維護工具。此外，該工具的設(shè)計主要關(guān)注操作員安全。帶有自動安全玻璃門的密封工藝室確保了封閉的工藝環(huán)境，并便于工藝監(jiān)控?；ユi傳感器確保工具的安全操作。