EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng)

是一款緊湊型多功能研發(fā)系統(tǒng)，可處理零碎片和大200 mm的晶圓。


一、簡(jiǎn)介

      EVG光刻機(jī)EVG610支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對(duì)準(zhǔn)方式。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速處理和重新加工，以滿足不斷變化的用戶需求，轉(zhuǎn)換時(shí)間不到幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念適合初學(xué)者到專家級(jí)各個(gè)階層用戶，非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。


EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng)

二、EVG光刻機(jī)應(yīng)用

      MEMS，RF器件，功率器件，化合物半導(dǎo)體等方面的圖形光刻應(yīng)用。


三、EVG光刻機(jī)特征

     晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/ 8英寸

     頂部和底部對(duì)準(zhǔn)功能

     高精度對(duì)準(zhǔn)

     自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列

     電動(dòng)的和程序控制的曝光間隙

     支持新的UV-LED技術(shù)

     小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

     分步流程指引

     遠(yuǎn)程技術(shù)支持

     多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同語(yǔ)言）

    敏捷的處理和轉(zhuǎn)換重新加工

     臺(tái)式或獨(dú)立式帶防振花崗巖臺(tái)面

     附加功能：

        鍵合對(duì)準(zhǔn)

        紅外對(duì)準(zhǔn)

        納米壓印光刻（NIL）



四、技術(shù)參數(shù)


1.掩模版-基板-晶圓尺寸

      掩模版尺寸：5寸/7寸/9寸

      基片/晶圓尺寸：100mm/150mm/200mm

      晶圓厚度：高達(dá)10mm


2.對(duì)準(zhǔn)模式

      頂部對(duì)準(zhǔn)精度：≤ ± 0,5 µm

      底部對(duì)準(zhǔn)精度：≤ ± 2,0 µm

      紅外對(duì)準(zhǔn)模式：≤ ± 2,0 µm/取決于基片的材料


3.頂部顯微鏡

      移動(dòng)范圍1：100mm（X軸：32-100mm；Y軸：-50/+30mm；）

      移動(dòng)范圍2：150mm（X軸：32-150mm；Y軸：-75/+30mm；）

      移動(dòng)范圍1：200mm（X軸：32-200mm；Y軸：-100/+30mm；）

      可選：平坦的物鏡可以增加光程；帶有環(huán)形燈的暗場(chǎng)物鏡，可以增加對(duì)比度


4.底部顯微鏡

      移動(dòng)范圍1：100mm（X軸：30-100mm；Y軸：±12mm；）

      移動(dòng)范圍2：150mm（X軸：30-100mm；Y軸：±12mm；）

      移動(dòng)范圍1：200mm（X軸：30-100mm；Y軸：±12mm；）

      可選：平坦的物鏡可以增加光程；帶有環(huán)形燈的暗場(chǎng)物鏡，可以增加對(duì)比度


5.曝光器件

（1）波長(zhǎng)范圍：

      NUV：350 - 450 nm

      DUV：低至200 nm (可選)

（2）光源：

      汞燈350W , 500W UV LED燈

（3）均勻性：

      150mm：≤ 3%

      200mm：≤ 4%

（4）濾光片：

      汞燈：機(jī)械式

      UV LED：軟件可調(diào)


6.曝光模式

      接觸：硬、軟接觸，真空

      曝光間隙：1 - 1000 µm

      線寬精度：1µm

      模式：CP(Hg/LED)、CD(Hg/LED)、 CT(Hg/LED) 、CI(LED)

      可選：內(nèi)部，浸入，扇形


7.可選功能

      鍵合對(duì)準(zhǔn)精度：≤ ± 2,0 µm

      納米壓抑光刻（NIL）精度：≤ ± 2,0 µm

      納米壓抑光刻（NIL）軟印章分辨率：≤ 50 nm圖形分辨率


8.設(shè)施

      真空：< 150 mbar

      壓縮氣體：6 bar

      氮?dú)猓嚎蛇x2或者6 bar

      排氣要求：汞燈需要；LED不需要


9.系統(tǒng)方式

      系統(tǒng)：windows

      文件分享和軟件備份

      無(wú)限程序儲(chǔ)存，參數(shù)儲(chǔ)存在程序內(nèi)

      支持多語(yǔ)言，含中文

      實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程支持，診斷和排除故障


10.楔形補(bǔ)償

      全自動(dòng)- 軟件控制


11.規(guī)格

      占地面積：0.55m2

      高度：1.01m

      重量：約250kg


      納米壓印分辨率：≤ 40 nm（取決于模板和工藝）

      支持工藝：Soft UV-NIL