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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司

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Dymek岱美儀器分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào):EVG770 NT

品       牌:EVG

廠商性質(zhì):代理商

所  在  地:上海市

更新時(shí)間:2024-11-09 15:15:22瀏覽次數(shù):1302次

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我們的EVG770分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復(fù)制模板。結(jié)合金剛石車削或直接寫入方法,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

納米壓印機(jī)是一種科研設(shè)備,利用納米壓印技術(shù)將預(yù)制的模具圖案轉(zhuǎn)移到工件上,以制作出納米級(jí)別的微結(jié)構(gòu)。它是納米制造技術(shù)的一種,被廣泛應(yīng)用于納米電子、納米光子學(xué)、納米生物技術(shù)、微電機(jī)械系統(tǒng)等領(lǐng)域。
1. 簡(jiǎn)介

我們的EVG770分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復(fù)制模板。結(jié)合金剛石車削或直接寫入方法,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

2. 納米壓印設(shè)備主要應(yīng)用

主要使用連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作(例如:微鏡頭制作)。

3. 特色

EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能,全緬的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。

4. 納米壓印機(jī)參數(shù)特征

1)高效的晶圓級(jí)光學(xué)微透鏡主制造,直至SmartNIL的納米結(jié)構(gòu)®

2)簡(jiǎn)單實(shí)施不同類型的主機(jī)

3)可變抗蝕劑分配模式

4)分配,壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像

5)用于壓印和脫模的原位力控制

6)可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償

7)可選的自動(dòng)盒帶間處理

5. EVG770技術(shù)數(shù)據(jù)

1)晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米

2)解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

3)支持的工藝:軟UV-NIL納米壓印

4)曝光源:大功率LED(i線)> 100 mW /cm2

5)對(duì)準(zhǔn):頂面顯微鏡,用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300 nm

6)弟一個(gè)印刷模具到模具的放置精度:≤1微米

7)有效印記區(qū)域:長(zhǎng)達(dá)50 x 50毫米

8)自動(dòng)分離:支持

9)預(yù)處理功能:涂層:液滴分配(可選)

6. 納米壓印工藝結(jié)果

Dymek岱美儀器分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)


圖1  微鏡頭

Dymek岱美儀器分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)

圖2  納米壓印結(jié)果(100納米分辨率)



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型號(hào):EVG770 NT 參考價(jià): ¥面議
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