廣州格丹納儀器有限公司
多晶硅材料消解的方法要點,一定要碼住
檢測樣品:多晶硅
檢測項目:消解
方案概述:多晶硅是生產(chǎn)單晶硅的直接原料,是當代人工智能、自動控制、信息處理、光電轉(zhuǎn)換等半導體器件的電子信息基礎(chǔ)材料。被稱為“微電子大廈的基石”。
多晶硅是生產(chǎn)單晶硅的直接原料,是當代人工智能、自動控制、信息處理、光電轉(zhuǎn)換等半導體器件的電子信息基礎(chǔ)材料。被稱為“微電子大廈的基石”。
多晶硅,灰色金屬光澤。密度2.32~2.34。熔點1410℃。沸點2355℃。溶于氫氟酸和硝酸的混酸中,不溶于水、硝酸和鹽酸。常溫下不活潑,高溫下與氧、氮、硫等反應(yīng)。高溫熔融狀態(tài)下,具有較大的化學活潑性,能與幾乎任何材料作用。具有半導體性質(zhì),是極為重要的優(yōu)良半導體材料,但微量的雜質(zhì)即可大大影響其導電性。目前,對硅材料中各種雜質(zhì)進行檢測前通常采用酸溶法或堿熔法消解處理后才能進行雜質(zhì)含量分析。在選用溶劑時一般要考慮被測元素能否迅速、*溶解。試樣處理過程中要考慮被測元素的揮發(fā)損失;被測元素是否會與其他被測組分生成不溶性物質(zhì);過量溶劑可能對分析結(jié)果產(chǎn)生的干擾(如污染和干擾效應(yīng)等);是否損傷容器。堿熔法基本使用氫氧化鈉溶解樣品,產(chǎn)物硅酸鈉易水解形成硅酸難以消除基體硅對測定的影響,而且在光譜、質(zhì)譜分析過程中容易堵塞炬管。
本文采用酸溶法溶解多晶硅樣品,探究一個適用于國內(nèi)市場上所售多晶硅樣品有效的消解體系和消解手段。研究了消解中水、氫氟酸和硝酸的用量,比較了超聲助消解、水浴加熱助消解和微波助消解對消解效果的影響。
實驗部分
實驗儀器
電子分析天平
智能石墨消解儀(格丹納公司,D4)
超聲波清洗器
水浴鍋(格丹納公司)
微波消解儀(格丹納公司,A8)
電熱鼓風干燥箱
超純水機
相關(guān)產(chǎn)品清單
溫馨提示:
1.本網(wǎng)展示的解決方案僅供學習、研究之用,版權(quán)歸屬此方案的提供者,未經(jīng)授權(quán),不得轉(zhuǎn)載、發(fā)行、匯編或網(wǎng)絡(luò)傳播等。
2.如您有上述相關(guān)需求,請務(wù)必先獲得方案提供者的授權(quán)。
3.此解決方案為企業(yè)發(fā)布,信息內(nèi)容的真實性、準確性和合法性由上傳企業(yè)負責,化工儀器網(wǎng)對此不承擔任何保證責任。
最新解決方案
該企業(yè)的其他方案
業(yè)界頭條
- “膜”力釋放!堿性水電解制氫電解槽用PPS
-
近年來,氫能行業(yè)在全球范圍內(nèi)得到了廣泛關(guān)注,尤其是在中國,政府出臺了一系列政策以推動氫能產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。