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PICOSUN R-200標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng)PX 1617
SAL1000G原子層沉積系統(tǒng)PX 3202
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植PX 1802
PICOSUN ALD R-300PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級版PX 2955
TFS 200原子層沉積研究設(shè)備PX 1800
等離子體增強(qiáng)原子層沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2729
GM10/100/1000正極材料包覆PX 2757
NLD-3500(M)原子層沉積系統(tǒng)PX 2822
便攜式樣品傳送腔體PX 4047
AT-600原子層沉積系統(tǒng)PX 3030
P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)PX 3044
ALD R-200原子層沉積系統(tǒng)PX 2716
VE-2012日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統(tǒng)PX 4672
AT 200M迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱PX 1617
原子團(tuán)簇束流系統(tǒng)桌面式PX 0
工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實驗室設(shè)備PX 1802
PE鉑金埃爾默ICPMSPX 1802
氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射PX 1802
便攜式樣品傳送腔體沉積系統(tǒng)PX 1802
4/6英寸輻射式樣品臺系統(tǒng)PX 1802
插拔式加熱器沉積系統(tǒng)PX 1802
脈沖激光沉積樣品臺PX 1802
脈沖激光沉積靶臺PX 1802
脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路PX 1802
單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 1802
雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 1802
電漿原子層沉積設(shè)備PX 1802
原子層沉積設(shè)備2PX 1802
原子層沉積系統(tǒng)PX 1802
批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備PX 1802
FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積PX 1802
感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1802
低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1802
電漿輔助式化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1802
化學(xué)氣相沉積PX 1802
PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB 200PX 1802
帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備SI 500 PPDPX 1802
等離子沉積設(shè)備SI 500 DPX 1802
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1802
沉積系統(tǒng)PX 1802
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植
工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實驗室設(shè)備
PE鉑金埃爾默ICPMS
氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射
原子層沉積ALD
等離子增強(qiáng)原子層沉積PEALD
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
對夾式蝶閥廠家
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