離子濺射鍍膜儀（通用儀器）簡介：

什么是離子濺射鍍膜？

    在陽極與陰極之間使用合適的氣體（常用的是氬氣）和電壓，當(dāng)出現(xiàn)輝光放電時，陰極材料在氣體離子的轟擊下將侵蝕目標(biāo)材料，這個過程就叫離子濺射。其結(jié)果是濺射出來的原子（陰極材料）將在樣本（通常樣本固定于陽極上）表面形成一層薄膜，均勻分布在樣本的表面。

    陰極材料通常使用金，習(xí)慣稱之為金靶。

EMS550離子濺射鍍膜儀（通用儀器）

    EMS 550具有旋轉(zhuǎn)樣品臺，可傾斜，適合各種樣品。參數(shù)可預(yù)設(shè)，全自動控制保證獲得準(zhǔn)確的鍍層厚度。 低電壓濺射、冷濺射、超細(xì)顆粒等功能的使用，大大提高了工作效率。腔室直徑為165 mm（6英寸），非常方便裝載及移走樣品。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶（可選）?？蛇x靶材包括金/鈀，鉑/鈀和鉑。 各種功能都集中設(shè)計在儀表板上，使用方便，滿足不同學(xué)科的用戶使用要求。 濺射參數(shù)可預(yù)設(shè)，包括氣體放氣針閥（此閥為電磁閥），一旦設(shè)置，就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖，系統(tǒng)可選配EMS250鍍碳附件。

    本儀器為全自動操作，可控制獨立的真空泵。