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Labpol Duo 8-12 美國(guó)Extec進(jìn)口雙盤磨拋機(jī)
| 參考價(jià) | ￥ 40000 |
| 訂貨量 | ≥1 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 儀高南儀器（深圳）有限公司
- 品牌
- 型號(hào) Labpol Duo 8-12
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2015/9/21 18:14:17
- 訪問次數(shù) 668
產(chǎn)品標(biāo)簽
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美國(guó)EXTEC單盤研磨拋光機(jī) Labpol 8-12 
Labpol 8-12磨拋機(jī)為單盤無(wú)級(jí)調(diào)速式研磨、拋光多用機(jī)。該機(jī)磨拋盤調(diào)速范圍為50—500轉(zhuǎn)/分鐘。該機(jī)可實(shí)現(xiàn)試樣從粗磨、精磨、粗拋光至精拋光的整個(gè)制樣過程。
可快速更換底盤（8"和12“隨時(shí)互換）
技術(shù)參數(shù)
數(shù)字顯示磨拋盤轉(zhuǎn)速
工作電壓：220V 50HZ
底盤直徑：8" （203mm）, 250mm, 12"（305mm）
電動(dòng)機(jī)：YSS7124、550W
外形尺寸：Width 385mm×Depth 640mm×Height 280mm
重量：70 lbs. （32Kg）
美國(guó)EXTEC Labpol Duo 8無(wú)級(jí)調(diào)速式試驗(yàn)?zāi)仚C(jī)Polisher/Grinder為雙盤臺(tái)式機(jī)，適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行預(yù)磨、研磨和拋光操作。本機(jī)通過變頻器調(diào)速，可直接獲得50-1000轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速，從而使本機(jī)具更廣泛的應(yīng)用性，是用戶用來(lái)制作金相試樣必*的設(shè)備。
本機(jī)帶有冷卻裝置，可以在預(yù)磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織。該機(jī)左盤為預(yù)磨、研磨盤，右盤為拋光盤。該機(jī)不但可以對(duì)試樣進(jìn)行輕磨、粗磨、半精磨、精磨，還可以對(duì)試樣進(jìn)行精密拋光。
本機(jī)可以兩個(gè)人同時(shí)操作使用，是工廠、科研單位以及大專院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備。
技術(shù)指標(biāo)：
1.工作電壓 220V 50HZ
2.研磨盤直徑 8" （203mm）
3.拋光盤直徑 8" （203mm）
4.電動(dòng)機(jī) Variable Speed: 0.6 HP （.44 KW） motor and controller.、
5.外形尺寸 Width 650 mm x Depth 610mm x Height 280mm
6.重量 70 lbs. （32Kg）
Labpol 12型自動(dòng)研磨/拋光儀
1）馬達(dá)驅(qū)動(dòng)：高扭矩系統(tǒng)，0.6hp/0.44kw直流馬達(dá)；2）可變轉(zhuǎn)速控制器：50-500 rpm；3）可接受一個(gè)可用于6個(gè)樣品的樣品架；
進(jìn)口Labpol 12型自動(dòng)研磨/拋光儀
●一般特點(diǎn)：
1）設(shè)計(jì)*，可輸入所須參數(shù)進(jìn)行編程，保存可供以后使用；
2）臺(tái)面上帶有旋轉(zhuǎn)盤，由強(qiáng)大的DC馬達(dá)和皮帶驅(qū)動(dòng)，足夠的扭矩力可同時(shí)研磨6個(gè)樣品。平板直徑為12"，轉(zhuǎn)速在50 rpm~ 500 rpm之間可調(diào)，可順時(shí)針或逆時(shí)針方向運(yùn)動(dòng)；
3）拋光頭可接受一個(gè)可用于6個(gè)樣品的樣品架。樣品尺寸zui高可達(dá)2"。樣品架由馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，以一恒定速度轉(zhuǎn)動(dòng)。1個(gè)6空氣柱被放在旋轉(zhuǎn)樣品架的周圍。每個(gè)空氣柱的活動(dòng)活塞可擴(kuò)展以提供氣壓，并放在每個(gè)樣品點(diǎn)的中心位置。這樣每個(gè)樣品被單獨(dú)放置。樣品的水平狀態(tài)并不重要，套管可用于滿足特別的樣品直徑，因此可減少樣品在拋光時(shí)的傾斜趨勢(shì)?？裳心?拋光1個(gè)或zui多6個(gè)樣品；
4）研磨/拋光頭的旋轉(zhuǎn)能清楚觀察到，因此能輕松更換壓板，可滿足人工操作或研磨；
5）如采用Auto 6型拋光頭則不會(huì)這麼簡(jiǎn)單，因?yàn)橄到y(tǒng)由邏輯控制器草，須通過鍵盤輸入數(shù)據(jù)來(lái)操作。程序可通過以下參數(shù)來(lái)改變；
壓盤轉(zhuǎn)速；
拋光或研磨時(shí)間；
水（用于研磨）；
壓盤旋轉(zhuǎn)方向CW順時(shí)/CCW逆時(shí)；
滴液?jiǎn)卧ㄓ糜趻伖猓╅_/關(guān)；
輸入?yún)?shù)進(jìn)行特別編程；
zui多有8個(gè)程序可編制和保存，并可連續(xù)使用；樣品負(fù)載壓力可在5 bar~75psi之間調(diào)整；
6）在拋光過程中控制應(yīng)用（或滴液） 鉆石懸浮液在壓板上能有效保證拋光的重復(fù)性。Auto 6型有出口可用于滴液?jiǎn)卧?種滴液?jiǎn)卧商峁?，容量分別為2或4種拋光懸浮液。每個(gè)懸浮的噴霧頭受壓力激活。它們放在壓板的上面，受電子控制可以一定頻率滴出液體。可選配磁力攪拌器放在每個(gè)液體瓶下面，以確保懸浮液攪拌，以防止沉淀；
●技術(shù)特點(diǎn)：
1）主機(jī)：
馬達(dá)驅(qū)動(dòng)：高扭矩系統(tǒng)，0.6hp/0.44kw直流馬達(dá)，5:1滑車旋轉(zhuǎn)；
可變轉(zhuǎn)速控制器：50-500 rpm；
壓板尺寸：12 inch （305mm）；
2）Auto 6型拋光頭：
樣品容量：6個(gè)樣品，zui大直徑到2 inch （50mm）；
樣品放置：?jiǎn)蝹€(gè)氣體放置，可變壓力0-75 psi 0-6 bar，調(diào)節(jié)器控制壓力；
樣品旋轉(zhuǎn)：固定轉(zhuǎn)速120 rpm，2.5hp/0.18kw AC馬達(dá)；
3）內(nèi)置分液器：
氣壓系統(tǒng)：包括3個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的閥門和壓力調(diào)節(jié)器；
懸浮液數(shù)量：3個(gè)，在樣品架上；
噴霧嘴：2個(gè)可調(diào)，在板上；
編程：可通過鍵盤輸入噴霧時(shí)間和噴霧的間隔；
4）數(shù)據(jù)輸出：（可通過操作界面操作，主要的功能為）：
開始工作循環(huán)；
可選擇程序1-8；
編輯程序；
手動(dòng)模式，研磨頭不再使用；
每個(gè)程序所設(shè)的參數(shù)為：壓板運(yùn)轉(zhuǎn)方向，壓板轉(zhuǎn)速，時(shí)間，水開/關(guān)，分液參數(shù)；
zui多儲(chǔ)存8個(gè)參數(shù)；
5）尺寸WDH：570（670,如上加分液瓶 ）×760×700 mm；
6）重量：50Kg；
●訂購(gòu)信息：
10400： Labpol 12型自動(dòng)研磨/拋光機(jī)，6個(gè)樣品架；
10205： 蓋子 f/EWC10400 Labpol 12 Auto；
10222 ：鋁制壓板，直徑12in. （305mm）；
10214 ：鋁制壓板防護(hù)，直徑12in. （305mm）；
11440 ：6個(gè)套管，可用于1 in樣品；
11442 ：6個(gè)套管，可用于1 1/4 in樣品；
11444 ：6個(gè)套管，可用于1 1/2 in樣品；
11445 ：6個(gè)套管，可用于2 in樣品；
11125 ：6個(gè)套管，可用于25mm樣品；
11130 ：6個(gè)套管，可用于30mm樣品；
11140 ：6個(gè)套管，可用于40mm樣品；
11150 ：6個(gè)套管，可用于50mm樣品；
10402：電子分液器，1個(gè)；
11422：磁力攪拌器，1個(gè)，可選；
10404：電子分液器，4個(gè)；
11424：磁力攪拌器，4個(gè)，可選；
Labpol 8-12進(jìn)口單盤磨拋機(jī)
美國(guó)EXTEC研磨/拋光機(jī)
可改變尺寸系列即可改變底盤尺寸8"/12"
適合安裝8"203mm,250mm或12"305mm
采用可調(diào)速0.4HP（0.3KW）馬達(dá)及控制器，轉(zhuǎn)速約50-500rpm，并備有轉(zhuǎn)速顯示器，
出入水管為可彎曲軟管，接駁口設(shè)置在儀器的背面，并備有水開關(guān)，可直接將水沖向樣品，能加強(qiáng)潤(rùn)滑作用，對(duì)研磨工序十分有幫助
美國(guó)EXTEC單盤研磨拋光機(jī) Labpol 8-12
Labpol 8-12磨拋機(jī)為單盤無(wú)級(jí)調(diào)速式研磨、拋光多用機(jī)。該機(jī)磨拋盤調(diào)速范圍為50—500轉(zhuǎn)/分鐘。該機(jī)可實(shí)現(xiàn)試樣從粗磨、精磨、粗拋光至精拋光的整個(gè)制樣過程。
可快速更換底盤（8"和12“隨時(shí)互換）
技術(shù)參數(shù)
數(shù)字顯示磨拋盤轉(zhuǎn)速
工作電壓：220V 50HZ
底盤直徑：8" （203mm）, 250mm, 12"（305mm）
電動(dòng)機(jī)：YSS7124、550W
外形尺寸：Width 385mm×Depth 640mm×Height 280mm
重量：70 lbs. （32Kg）
美國(guó)EXTEC Labpol Duo 8無(wú)級(jí)調(diào)速式試驗(yàn)?zāi)仚C(jī)
美國(guó)EXTEC Labpol Duo 8無(wú)級(jí)調(diào)速式試驗(yàn)?zāi)仚C(jī)Polisher/Grinder為雙盤臺(tái)式機(jī)，適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行預(yù)磨、研磨和拋光操作。本機(jī)通過變頻器調(diào)速，可直接獲得50-1000轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速，從而使本機(jī)具更廣泛的應(yīng)用性，是用戶用來(lái)制作金相試樣必*的設(shè)備。
本機(jī)帶有冷卻裝置，可以在預(yù)磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織。該機(jī)左盤為預(yù)磨、研磨盤，右盤為拋光盤。該機(jī)不但可以對(duì)試樣進(jìn)行輕磨、粗磨、半精磨、精磨，還可以對(duì)試樣進(jìn)行精密拋光。
本機(jī)可以兩個(gè)人同時(shí)操作使用，是工廠、科研單位以及大專院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備。
技術(shù)指標(biāo)：
1.工作電壓 220V 50HZ
2.研磨盤直徑 8" （203mm）
3.拋光盤直徑 8" （203mm）
4.電動(dòng)機(jī) Variable Speed: 0.6 HP （.44 KW） motor and controller.、
5.外形尺寸 Width 650 mm x Depth 610mm x Height 280mm
6.重量 70 lbs. （32Kg）
Labpol Duo 8-12雙盤磨拋機(jī)
Labpol Duo 8-12雙盤磨拋機(jī)
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