G4 PHOENIX DH TDS熱脫附質譜法
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- 公司名稱 碧彥(上海)儀器技術有限公司
- 品牌
- 型號 G4 PHOENIX DH
- 產地
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2024/12/4 12:01:49
- 訪問次數 29
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價格區(qū)間 | 面議 | 儀器種類 | 氫分析儀 |
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應用領域 | 建材,電子,冶金,汽車 |
為什么我需要可擴散的氫氣分析?
氫誘發(fā)開裂和脆化是一種危險現象。雖然高強度鋼和氧銅級特別容易受到氫脆化的影響,但可擴散氫的吸收會影響更多的金屬,但在很大程度上取決于環(huán)境和工藝條件,如環(huán)境濕度。在每個機械、熱和電制造步驟中引入氫氣都有風險,尤其是在焊接和焊接過程中。
TDS熱脫附質譜法應用可以在30分鐘內產生結果,而傳統方法需要多天時間。因此這是允許可行的可擴散氫氣預焊接測試的方法。這允許用戶優(yōu)化其流程,以避免代價高昂的故障,然后再完成。
熱脫附質譜(TDS)是一種表面分析技術,可以通過加熱樣品來脫附氫氣,并通過質譜儀等儀器來檢測和分析脫附的氫氣。在加熱過程中,樣品中的氫氣會逐漸從鋼中脫附出來,并被質譜儀檢測到。根據氫氣脫附的溫度和峰值面積,可以計算出鋼中的氫含量。
TDS技術具有靈敏度高、分辨率好、分析速度快等優(yōu)點,因此在材料科學、化學、半導體工業(yè)等領域得到了廣泛應用。在鋼鐵行業(yè)中,TDS技術可以用來檢測鋼中的氫含量,從而評估鋼材的質量。此外,TDS技術還可以用于研究材料的吸附性能、催化反應機理等方面。
TDS技術的基本原理是將樣品置于真空室中,通過加熱使樣品表面的氣體分子脫附然后使用質譜儀對脫附的氣體進行分析。在TDS實驗中,需要控制加熱溫度和時間,以獲得準確的結果。同時,還需要選擇合適的質譜儀和分析條件,以確保能夠準確地檢測到樣品中的氫氣。
在實際應用中,TDS技術通常與其他分析技術結合使用,以提高分析的準確性和可性。例如,可以將TDS技術與紅外光譜、拉曼光譜等技術相結合,以獲取更全面的信息。此外還可以將TDS技術應用于在線監(jiān)測系統中,實現實時監(jiān)測和控制。
一、G4 PHOENIX DH TDS熱脫附質譜法主要優(yōu)勢:
1、可選的熱電偶套件,用于直接樣品溫度讀數;
2、附加電阻加熱爐,可提供高達1100℃的高溫;
3、外部采樣罐的可選接口,用于涵蓋ISO 3690的GC方法;
4、具有10種不同體積的適合于整個分析范圍的自動和可靠的氣體校準單元;
5、長期穩(wěn)定的熱導檢測器(TCD),帶專用參考氣體通道,熱量交換器和ng/g分析功能;
6、紅外(IR)低熱質量的爐子,用于精確控制溫度, 可編程快速加熱(和冷卻)高達900℃,接受大樣品;
7、G4 帶四極質譜儀 改進了檢測 限制超過一個數量級,用于評估超低可擴散氫濃度或同位素及研究 鋼中不同的氫陷阱;
二、技術參數
二、技術參數
規(guī)格 | 優(yōu)點 | |
探測器 | ||
G4 PHOENIX | 帶參考通道和可調增益放大器的導熱探測器 | 可靠、可調節(jié)的范圍,無漂移 |
G4 PHOENIX 質譜 | 質譜儀,m/z 范圍 1-100 amu,單四極,優(yōu)化的 EI 源和通道探測器 | 特殊的質譜性能 |
爐 | ||
紅外加熱 | IR爐uop至900℃,即石英管30mm,水冷,光電熱電偶套件,用于直接樣品溫度讀數 | 精確的溫度控制,靈活的加熱程序,接受大樣本 |
電阻加熱(選件) | 附加電阻加熱爐高達 1100 oC,即石英管 18 mm | 多相雙相鋼中的殘余氫氣 |
載氣 | 氮氣 99.995% 純度,最小2巴(±50 psi),99.9990% 純度,用于微量分析 | 使用再生分子篩進行預清洗 |
校準氣體 | 使用純氣體(H2 或 He)或經過認證的混合物(每個組件純度為 99.999%),可自動氣體劑量校準系統,可處理 10 個單獨體積 | 簡單、精確的氣體校準,無需標準,可追溯至 p、T、V |
冷卻水 | 1 升/分鐘 = 3 巴(44 psi) | 快速冷卻,標準自來水兼容,節(jié)水設計與停水閥,冷水機組也是可能的 |
電源 | ||
G4 PHOENIX | 230 VAC (± 10 %), 50-60 Hz, 2200 VA | 行業(yè)標準電源和電流配置 |
質譜儀 | 230 VAC, 50-60 Hz, 250 VA | |
尺寸和重量 | ||
G4 PHOENIX | 630 x 700 x 670 mm (寬 x 深 x 高), 重量 ~ 50 kg | |
質譜儀 | 630 x 640 x 480 mm (寬 x 深 x 高), 重量 ~ 60 kg |
盡管TDS技術具有許多優(yōu)點,但也存在一些局限性。首先,TDS技術只能檢測到樣品表面的氣體分子,無法直接測量樣品內部的氣體含量。其次,TDS技術對于不同種類的氣體分子的靈敏度不同,因此需要針對具體的應用進行優(yōu)化。此外,TDS技術的操作過程較為復雜,需要一定的專業(yè)知識和技能。