我們所提供的Ossila紫外臭氧清洗機(jī)系統(tǒng)是一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，高效的材料表面清洗設(shè)備。只需把樣品放置到托盤上，關(guān)上艙門，設(shè)置時(shí)間，按下運(yùn)行按鈕，就可以在幾分鐘內(nèi)，快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材上的有機(jī)污染物，為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產(chǎn)生臭氧，將污染物分解成揮發(fā)性化合物。這些揮發(fā)性化合物從表面蒸發(fā)而跡。這種方法可產(chǎn)生接近原子級(jí)的清潔表面并且不會(huì)損壞樣品。

應(yīng)用工藝：

?改善表面親水性

?表面清洗

?準(zhǔn)備薄膜沉積

?表面處理

?紫外固化

?表面滅菌消毒

?去除表面單分子膜

?表面氧化

?清洗AFM / STM探針

?清洗光學(xué)元件

可清洗的基材示例：

?石英

?硅

?氧化硅

?氮化硅

?金

?鎳

?鋁

?砷化鎵

?礬土

?玻璃

?不銹鋼

可去除的污染物示例：

?光刻膠

?樹脂

?人體皮膚油脂

?清洗溶劑的殘留物

?塑料/硅片表面油漬

?助焊劑

產(chǎn)品特點(diǎn)：

?成本低；

?120x120mm樣品臺(tái)；

?處理樣品高度為14mm；

?抽屜式樣品臺(tái)，簡(jiǎn)單方便；

?樣品臺(tái)自安全聯(lián)鎖，防止對(duì)人身傷害；

?LCD屏顯示“已用時(shí)間”和“剩余時(shí)間”；

?60分鐘計(jì)時(shí)器；

?高強(qiáng)度紫外線燈源；

?可控溫的樣品臺(tái)；

?樣品清洗無(wú)需溶劑；

?超凈表面。

下圖顯示了UV臭氧處理對(duì)基材的影響，以改善表面親水性。