Lumina AT2 薄膜缺陷檢測儀
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- 公司名稱 北京圣達(dá)駿業(yè)科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/11/20 11:35:16
- 訪問次數(shù) 117
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,綜合 |
|---|
Lumina AT2 薄膜缺陷檢測儀產(chǎn)品特點(diǎn)：
實(shí)現(xiàn)亞納米薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應(yīng)力點(diǎn)和其他缺陷的全表面掃描和成像。
實(shí)用于透明、硅、化合物半導(dǎo)體和金屬基底。
在2分鐘內(nèi)掃描并顯示300毫米晶圓。
動態(tài)補(bǔ)償表面翹曲。
可以標(biāo)刻出缺陷的位置，以便進(jìn)一步分析。
可容納高達(dá)450 x 450 mm的非圓形和易碎基板。
能夠通過一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征。
Lumina AT2 薄膜缺陷檢測儀系統(tǒng)優(yōu)勢的四個(gè)檢測通道：
偏光（污漬、薄膜不均勻性）
坡度（劃痕、表面形貌）
反射率（內(nèi)應(yīng)力、條紋）
暗場（顆粒、夾雜物）
AT2應(yīng)用：
1.透明基底上的缺陷
2.單層污漬或薄膜不均勻性
3.化合物半導(dǎo)體的晶體缺陷
在化合物半導(dǎo)體基底和外延生長層上檢測和分類多種類型的晶體缺陷
AT2的多用途：
缺陷類型
薄厚基板
透明和不透明基板
電介質(zhì)涂層
金屬涂層
鍵合硅片
開發(fā)和在線生產(chǎn)
AT2 軟件使用來自多個(gè)探測器任意組合的數(shù)據(jù)生成缺陷圖和報(bào)告：
地圖和位置
缺陷數(shù)量
彩色編碼缺陷
缺陷尺寸
采購中心
化工儀器網(wǎng)