C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對準光刻機主要用途

本機針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機，三層減震，組合式，拆卸方便。

  它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)，適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對準光刻機主要性能指標：

1. 多種版夾盤

l C-25X300型4英寸有四種版夾盤,能真空吸附5"×5"或4"×4"或3"×3"方形掩板。對版的厚度無特殊要求（1～4mm皆可）。

l C-25X300型6英寸有六種版夾盤,能真空吸附7"×7"或6"×6"或5"×5"或4"×4"或3"×3"或2.5"×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求（1～4mm皆可）。

2. 真空吸附基片的“承片臺”

l C-25X300型4英寸設有相對應的真空吸附基片的“承片臺”三個，分別適用于φ2、φ3、φ4。對于非標準片或碎片，只要堵塞相應的小孔，同樣能真空吸附。

l C-25X300型6英寸設有相對應的真空吸附基片的“承片臺”五個，分別適用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6。對于非標準片或碎片，只要堵塞相應的小孔，同樣能真空吸附。

3. 照明

l 曝光面積：100mm*100mm

l 曝光不均勻性≤3%

l 曝光強度≥40mW/cm2可調

l 紫外光束角≤3°

l 紫外光中心波長365nm、404nm、435nm可選

l 紫外光源壽命：≥2萬小時

4. 采用進口時間繼電器（該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預設）控制氣動快門，動作準確可靠。

5. 該機為接觸式曝光機，但可實現(xiàn)：

l 硬接觸曝光：用管道真空來獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。

l 軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之間。

l 微力接觸曝光：小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。

6. 分辯率估計

如果用戶的“版”、“片”精度符合國家規(guī)定，環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴格控制，采用進口正性光刻膠，且勻膠厚度得到嚴格控制。加之前后工藝先進的話，硬接觸曝光的最小分辨度可達1μm以上

7. 對準

觀察系統(tǒng)為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭，通過視屏線連接到顯視屏上。

a.單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續(xù)變倍顯微鏡（也可為1.6X～10X）。

b.CCD攝像機靶面對角線尺寸為：1/3，（6mm）;

c.采用19"液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：0.7×57≈40倍（最小倍數(shù)），4.5×57≈256倍（最大倍數(shù)）或（91倍～570倍）。

對準臺：（采用片動，版不動方式）

X、Y調整：±5mm。

θ調整：轉角≤5°

對準間隙（分離間隙）0～5mm任意可調。

對準精度：1μm

套刻精度：1μm

整個對準臺相對于顯微鏡可作±20mm掃描運動。

“接觸、分離”20μm情況下，片相對于版的“漂移量”，可調到≤±0.5μm。

8. 設備所需能源：

主機電源： 220V±10%   50HZ

潔凈空氣≥0.4MPα。

真空：-0.07～－0.08MPα。

9. 尺寸和重量：

尺寸：機體720 mm（長）×720 mm（寬）×882mm（高）。

重量：≤100Kg。

機體放在專用工作臺上。

工作臺:1100 mm（長）×750 mm（寬）×645 mm（高）。

高度可調范圍0～30mm。

重量50Kg（工作臺后側裝有電氣部分）。

總重量≤200Kg

10. C-25XB型光刻機的組成

l 主機

主機（含機體和工作臺）

對準用單筒顯微鏡

LED曝光頭

l 附件

主機附件

3"□型掩版夾盤

4"□型掩版夾盤（出廠時安裝到機器上）

用于2"基片的真空夾持承片臺。

用于3"基片的真空夾持承片臺（出廠時安裝到機器上）

（若需特殊的基片承片臺，訂貨時用戶提出）

顯微鏡組成

單筒顯微鏡二個

兩個CCD

視頻連接線。

計算機和22"液晶監(jiān)視器。