PlasmaPro 1000 等離子增強化學氣相沉積PECVD
- 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
- 品牌 OXFORD/英國牛津
- 型號 PlasmaPro 1000
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/9/4 15:39:11
- 訪問次數(shù) 117
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1.產(chǎn)品概述:
提供大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案,LED工業(yè)要求高產(chǎn)量,高器件質(zhì)量和低購置成本。PlasmaPro1000更好地解決了這些需求。
2.設(shè)備原理:
PECVD技術(shù)是在低氣壓下,利用低溫等離子體在工藝腔體的陰上(即樣品放置的托盤)產(chǎn)生輝光放電,利用輝光放電(或另加發(fā)熱體)使樣品升溫到預(yù)定的溫度,然后通入適量的工藝氣體,這些氣體經(jīng)一系列化學反應(yīng)和等離子體反應(yīng),終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。
3.產(chǎn)品特點:
真更大的批量生產(chǎn)能力
高產(chǎn)量
更穩(wěn)定的器件質(zhì)量
低購置成本
提供單晶圓傳送腔室或者多至三個腔室的集群式配置
標準的真空傳送腔室,具有直開式和集群式選項
出色的正常運轉(zhuǎn)時間
高質(zhì)量器件性能和良率藝
4.設(shè)備工藝
490mm電-更為先進的批量規(guī)模,多達7x6”晶圓,提供了更高的產(chǎn)量
可靠的硬件系統(tǒng)易維護性-出色的正常運轉(zhuǎn)時間
壓盤-增強晶圓冷卻
Z向可移動電-更好的均勻性
雙進氣口-易于工藝調(diào)整
特殊的載盤設(shè)計-每片晶圓在小的邊緣去除區(qū)域之內(nèi),均獲得有效的冷卻,且易于使用和維護
高導(dǎo)通的徑向(軸對稱)抽氣結(jié)構(gòu)-確保提升了工藝均勻性和速率
提供大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案,LED工業(yè)要求高產(chǎn)量,高器件質(zhì)量和低購置成本。PlasmaPro1000更好地解決了這些需求。
490mm電-更為先進的批量規(guī)模,多達7x6”晶圓,提供了更高的產(chǎn)量
可靠的硬件系統(tǒng)易維護性-出色的正常運轉(zhuǎn)時間
壓盤-增強晶圓冷卻
Z向可移動電-更好的均勻性
雙進氣口-易于工藝調(diào)整
特殊的載盤設(shè)計-每片晶圓在小的邊緣去除區(qū)域之內(nèi),均獲得有效的冷卻,且易于使用和維護
高導(dǎo)通的徑向(軸對稱)抽氣結(jié)構(gòu)-確保提升了工藝均勻性和速率