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日立分析儀器(上海)有限公司

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超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)-TA100

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瞬態(tài)吸收光譜儀

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    大連創(chuàng)銳光譜科技有限公司基于自主創(chuàng)新的時(shí)間分辨光譜技術(shù),致力于推動(dòng)光譜技術(shù)在科研和工業(yè)領(lǐng)域的深入應(yīng)用。在科研儀器領(lǐng)域,創(chuàng)銳光譜由一線專家?guī)ш?duì),是目前國(guó)內(nèi)極少具備瞬態(tài)光譜獨(dú)立研發(fā)-生產(chǎn)-應(yīng)用完整能力體系的團(tuán)隊(duì)。

    創(chuàng)銳光譜以時(shí)間分辨光譜核心技術(shù),超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)為核心產(chǎn)品,打破進(jìn)口壟斷格局。主要產(chǎn)品包括瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)、共聚焦熒光成像系統(tǒng)、DPSS納秒激光器及高速探測(cè)器。在工業(yè)半導(dǎo)體檢測(cè)領(lǐng)域,公司以光譜技術(shù)創(chuàng)新為核心立足點(diǎn),已迅速完成碳化硅襯底、外延、氮化鎵、鈣鈦礦電池等多領(lǐng)域布局。

    公司擁有大連、杭州、南京三個(gè)研發(fā)中心,擁有一批時(shí)間分辨深厚經(jīng)驗(yàn)的人才,其中博士學(xué)歷以上人才10人。同時(shí),公司還邀請(qǐng)了國(guó)內(nèi)相關(guān)領(lǐng)域的專家擔(dān)任技術(shù)顧問(wèn),為公司的研發(fā)工作提供了強(qiáng)大的技術(shù)支持。

    作為一家以技術(shù)創(chuàng)新為核心的企業(yè),創(chuàng)銳光譜始終堅(jiān)持客戶為導(dǎo)向,不斷追求出色的產(chǎn)品質(zhì)量和客戶服務(wù)。未來(lái),公司將繼續(xù)秉承這一理念,不斷創(chuàng)新進(jìn)取,為光譜技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用做出更大的貢獻(xiàn)。 

超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng),閃光光解系統(tǒng),超快時(shí)間分辨太赫茲光譜儀,多功能熒光共聚焦掃描成像系統(tǒng),大能量納秒激光器

超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)-TA100主要技術(shù)指標(biāo):

超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)-TA100系統(tǒng)主機(jī)

激光器類型

800 nm飛秒激光器

1030 nm飛秒激光器

探測(cè)光譜范圍

280  -  380 nm

350     -   500  nm

320  -  650 nm

480     -   950 nm

420  -  800 nm

1100  -   1650 nm

850 - 1500 nm

檢測(cè)模式

透射/反射/背激發(fā)

檢測(cè)時(shí)間窗口

8 ns

零點(diǎn)前信噪比

≤0.1 mOD

時(shí)間分辨率

≤1.5倍飛秒激光脈寬

自動(dòng)化系統(tǒng)

全自動(dòng)光路切換、自動(dòng)化光路校準(zhǔn)

樣品倉(cāng)

支持溶液、薄膜、粉末樣品

外場(chǎng)調(diào)控

低溫/高壓/磁場(chǎng)等其他客戶所需條件

軟件

數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)分析擬合等

顯微動(dòng)力學(xué)成像模塊

檢測(cè)模式

微區(qū)光譜采集/寬場(chǎng)TA成像/載流子遷移成像

空間分辨率

≤1 μm

光譜探測(cè)范圍

400-800 nm

載流子遷移精度

100 nm

納秒TA模塊

光譜探測(cè)范圍

380-950 nm;1100-1600 nm

時(shí)間窗口

≤450 μs(可拓展至ms)

時(shí)間精度

1 ns

其他可拓展


中紅外模塊探測(cè)范圍

2-12 μm

TCSPC模塊時(shí)間分辨率

≤100 ps

超快熒光模塊時(shí)間分辨率

≤1.5倍激光脈寬

角分辨模塊

可拓展角分辨檢測(cè)


超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)-TA100

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