日本Hisol等離子清洗機(jī)去除有機(jī)污染物等 G1000 特點(diǎn)介紹

G1000是一種利用 氣體等離子體的蝕刻作用，

在低壓環(huán)境下對(duì)被清洗物體表面進(jìn)行清洗的系統(tǒng)。通過根據(jù)用途選擇所使用的氣體，

不僅可以可靠地去除有機(jī)污染物，還可以可靠地去除無機(jī)污染物。

該系統(tǒng)非常適合通過清潔 HIC 基板和引線框架的接合表面來提高接合強(qiáng)度，并通過表面改性（親水化）提高潤(rùn)濕性。

有機(jī)材料（抗蝕劑等）的蝕刻

去除污染物和焊劑

清潔引線鍵合表面——提高鍵合強(qiáng)度

提高表面親水性 - 芯片附著/模具預(yù)處理

表面張力控制等

日本Hisol等離子清洗機(jī)去除有機(jī)污染物等 G1000 規(guī)格參數(shù)

平行板式腔室將等離子體均勻照射到待清潔表面

根據(jù)清潔目標(biāo)，

從 5 種不同強(qiáng)度的等離子體模式中進(jìn)行選擇，包括無電子等離子體和活性等離子體。

內(nèi)存中可存儲(chǔ) 12 種清潔條件，并且

可使用設(shè)備正面的觸摸面板輕松執(zhí)行配方設(shè)置和操作。

與高頻 (13.56MHz) 相比， 40kHz LF 等離子電源可實(shí)現(xiàn)高效等離子照射

（工件上的熱應(yīng)力更?。?/span>

可以選擇任意 3 種氣體，氣體混合和流量可由 CPU 控制，并可選配質(zhì)量流量控制器。

有 14 個(gè)狹縫，用于放置托盤。

總共包括 12 個(gè)帶孔托盤，用作電極和工件支架。

托盤有三種類型：活性托盤（+）、接地托盤（-）和

與腔室絕緣的浮動(dòng)托盤，

等離子體在活性托盤和接地托盤之間產(chǎn)生