PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)(美國NBM)
- 公司名稱 昱臣半導體技術(shù)(香港)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/4/13 19:58:30
- 訪問次數(shù) 129
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產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 400萬-500萬 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,綜合 |
脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD
型號:AP-PLD230
脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)是將脈沖激光導入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài),然后被堆積到設(shè)在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成薄膜材料。
我們PLD系統(tǒng)擁有性能價比, 用戶用最少的錢買到研究級高性能的純進口PLD系統(tǒng)。
技術(shù)參數(shù)配置:
1.靶: 數(shù)量6個,大小1-2英寸,被激光照射時可自動旋轉(zhuǎn),靶的選擇可通過步進電機控制;
2.基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片,大小2英寸,加熱溫度可達1200攝氏度,溫度差<3%,加熱時基板可旋轉(zhuǎn),工作環(huán)境壓力是300mtorr;
3.基板加熱電源,到1200度;
4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質(zhì),內(nèi)表面電解拋光,本底真空度<5e-7 Torr;
5.樣品傳輸室:不銹鋼sus304材質(zhì),內(nèi)表面電解拋光,本底真空度<5e-5 pa;
6.排氣系統(tǒng):分子泵和干式機械泵;
7.閥門: 采用超高真空擋板閥;
8.真空檢測:真空計;
9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;
10.薄膜生長監(jiān)控系統(tǒng): 采用掃描型差分RHEED;
11.監(jiān)控軟件系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定,基板和靶的旋轉(zhuǎn),靶的更換等;
12.各種電流導入及測溫端子;
13.其它各種構(gòu)造:各種超高真空位移臺,磁力傳輸桿,超高真空法蘭,超高真空密封墊圈,超高真空用波紋管等;