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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>勻膠機> VTC-200P真空旋轉涂膜機

VTC-200P真空旋轉涂膜機

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北京鴻瑞正達科技有限公司—實驗室整體建設解決方案集成者:
鴻瑞正達主要服務于高等院校、科研院所和研發(fā)企業(yè),專注于科研領域,助力科研成果轉化。公司提供材料研究成套設備及整套解決方案,包括:高壓科學材料、金屬材料、電池研發(fā)、地質地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領域的科研成套設備。

我們的服務理念是:讓科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設備,材料科學,質譜儀,電化學,電池,催化

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產品簡介: VTC-200P 真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。 本機可用于強 酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。 VTC-200P 真空旋轉涂膜機腔體不可抽真空, 工作時利用真空盤吸附的 方式將樣品固定在載樣盤上,該設備可儲存 12 組程序,每組程序包含 6 個運行階段。不同運行階段設備轉 數(shù)不同, 使設備緩慢提升速度限速度, 有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜, 且不會過多浪費, 節(jié)約 材料。 腔室的上蓋可以對樣品進行加熱(可選功能 ,有利于粘稠度大的薄膜材料的涂覆過程的進行 VTC-200P 真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便,體積小巧等優(yōu)點,主要應用于各大專院校、科研院所 的實驗室中進行薄膜的生成過程。




產品名稱

VTC-200P 真空旋轉涂膜機

產品型號

VTC-200P

安裝條件

本設備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:設備配有進出水口


2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地


3、氣:不需要


4、工作臺: 尺寸 600mm×600mm×700mm ,承重 50kg 以上


5、通風裝置:需要

主要特點

6 個運行階段, 每段增減速率設置范圍img2100—2000rpm/s,每段

1 、設有 12 組程序, 每組包含

時間范圍: 0—60s。





2、真空吸附方式固定樣件,操作簡便。


3、吸盤真空度可以達到-0.08MPa。


4、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置,以減少偏心而造成的震動或飛片。


5、根據樣件規(guī)格可以配用不同的吸盤,且更換方便簡單。


6 、電機采用 24V 直流無刷電機,無級調速,可靠性高,適應性強,維修與保養(yǎng)簡單,噪音低, 震動小,運轉平穩(wěn),啟動快速穩(wěn)定,加速后運行平穩(wěn),可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。


7、本機可置于手套箱內使用,但控制部分與真空泵需置于箱外。


8 、可在惰性氣體氣氛(如 Ar 、N2 )下進行涂層。


9、采用無油雙杠真空泵,體積小巧、結構簡單、操作容易、維護方便、不會污染環(huán)境等優(yōu)點。


10、腔體通體采用聚丙烯材質,使用壽命更長,提高耐化學腐蝕性和優(yōu)異的抗應力開裂性能。


11、全英文操作系統(tǒng)。


12、具有開蓋保護功能,當涂膜過程中或涂膜結束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止


13、控制器采用單控制箱,液晶顯示數(shù)值,更直觀可靠。


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技術參數(shù)

1、電源: 220V      50HZ


2、電機功率: 350W/24V


3、轉速: 500rpm-6000rpm 之間可調


4.可儲存 12 組程序, 每組程序包含 6 個運行階段,

5、每段增減速率設置范圍: 100 rpm s2000 rpm /s,每段時間范圍: 0-60s


6、吸盤規(guī)格φ 100mm


7、本機可選配加熱功能: 加溫范圍 RT-99%





加熱蓋,水槽及吸盤采用聚丙烯材質

溫度單獨控制,與主機程序控制無關聯(lián)

產品規(guī)格

尺寸:φ250mm×360mm;重量: 20kg

標準配件

1

φ100mm 真空吸盤


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1 

2

O 型膠圈

1 



3

滴液器


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1 

4

滴液器支架

1 


中心定位器




5

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1 



6

無油真空泵


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1 

可選配件

進口移液器

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國產移液槍


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其它尺寸的真空吸盤


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