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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>其它實驗室常用設(shè)備>鍍膜機(jī)> VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

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北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司—實驗室整體建設(shè)解決方案集成者:
鴻瑞正達(dá)主要服務(wù)于高等院校、科研院所和研發(fā)企業(yè),專注于科研領(lǐng)域,助力科研成果轉(zhuǎn)化。公司提供材料研究成套設(shè)備及整套解決方案,包括:高壓科學(xué)材料、金屬材料、電池研發(fā)、地質(zhì)地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領(lǐng)域的科研成套設(shè)備。

我們的服務(wù)理念是:讓科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設(shè)備,材料科學(xué),質(zhì)譜儀,電化學(xué),電池,催化


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產(chǎn)品簡介: VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、 導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙 烯薄膜等。 VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜, 兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。 與同類設(shè)備相比, 其不僅應(yīng)用廣泛, 且具有體積小便于操 作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備, 特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及 OLED 等。




產(chǎn)品名稱

VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀

產(chǎn)品型號

VTC-600-3HD

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)


2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地


3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度 99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶 ?6mm 雙卡套


接頭)及減壓閥





4、工作臺: 尺寸 1500mm×600mm×700mm ,承重 200kg 以上


5、通風(fēng)裝置:需要

主要特點

1 、配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導(dǎo) 電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任何調(diào)換)。


2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。


3、體積小,操作簡便。


4、整機(jī)模塊化設(shè)計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計,可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。


5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。

技術(shù)參數(shù)

1、電源電壓: 220V    50Hz


2、總功率:<2.5KW


3、極限真空度: < E-6mbar  (配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到img2E-5mbar


4、工作溫度: RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度)


5、靶槍數(shù)量: 3 


6、靶槍冷卻方式:水冷


7 、靶材尺寸: ?2″ ,厚度 0.1mm-5mm  (因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)


8、直流濺射功率: 500W (可選)


9、射頻濺射功率: 300W/500W (可選)


10、載樣臺: ?140mm


11、載樣臺轉(zhuǎn)速: 1rpm-20rpm 內(nèi)可調(diào)


12、保護(hù)氣體: Ar 、N2 等惰性氣體


13、進(jìn)氣氣路: 質(zhì)量流量計控制 2 路進(jìn)氣, 1 個流量為 100 SCCM 1 個流量為 200 SCCM

產(chǎn)品規(guī)格

主機(jī)尺寸: 500mm ×560mm×660mm ,整機(jī)尺寸: 1300mm ×660mm×1200mm;重量: 160kg

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

直流電源控制系統(tǒng)

2 





2

射頻電源控制系統(tǒng)

1 

3

膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)

1 

4

分子泵(德國進(jìn)口)

1 

5

冷水機(jī)

1 

6

冷卻水管(?6mm

4 

可選配件

金、銦、銀、鉑等各種靶材




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