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OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐

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北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司—實(shí)驗(yàn)室整體建設(shè)解決方案集成者:
鴻瑞正達(dá)主要服務(wù)于高等院校、科研院所和研發(fā)企業(yè),專注于科研領(lǐng)域,助力科研成果轉(zhuǎn)化。公司提供材料研究成套設(shè)備及整套解決方案,包括:高壓科學(xué)材料、金屬材料、電池研發(fā)、地質(zhì)地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領(lǐng)域的科研成套設(shè)備。

我們的服務(wù)理念是:讓科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,材料科學(xué),質(zhì)譜儀,電化學(xué),電池,催化

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介: OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐是一款快速蒸發(fā)管式爐, 專門用于 PVD  CSS  法制作薄膜; 其爐管外徑為 11″ ,爐管內(nèi)載樣盤可放置 3″ 的圓形或 2″×2″的方形基片; OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜( CSS )爐加熱元件為兩組紅外燈管, 分別安裝在腔體頂端和底部, 升溫速率高達(dá) 20℃/s ,可迅速使?fàn)t腔內(nèi)溫度升高; 冷卻速率: >10/s ,可在鍍膜后使樣品快速降溫; 溫控系統(tǒng)采用 PID30 段程序化控制, 控溫精度為±1℃, 并且儀器面板上帶有 RS485 接口, 若儀表內(nèi)配有控溫軟件, 就可將升 溫程序和曲線導(dǎo)出。


產(chǎn)品名稱

OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐

產(chǎn)品型號(hào)

OTF-1200X-RTP-II

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)


2、電: AC220V 50Hz20A 空氣開(kāi)關(guān)),必須有良好接地


3 、氣: 設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度 99.99%以上 ,需自備氬氣氣瓶(自帶 ?6mm 雙卡套接


頭)


4、工作臺(tái):設(shè)備為落地式, 占地面積 1m2 以上


5、通風(fēng)裝置:需要

主要特點(diǎn)

1、為了減小熱輻射和達(dá)到快速冷卻的效果,加熱元件被嵌在水冷機(jī)構(gòu)上。


2 、緊貼頂部加熱元件上裝有一氮化鋁基片(?76mm×0.5mm),使得樣品基片上的溫度更加





均勻。


3 3″的石墨坩堝可放于底部加熱元件上,用于盛放蒸發(fā)料。


4 、真空法蘭通過(guò)兩個(gè)硅膠 O 型圈進(jìn)行密封,通過(guò)機(jī)械泵其腔內(nèi)真空度可達(dá) 10-2torr ,通過(guò)分子 泵真空度可達(dá) 10-5torr。


5、兩個(gè)真空法蘭都可以通過(guò)手動(dòng)操作進(jìn)行上下移動(dòng)。


6、一個(gè)數(shù)字式真空顯示計(jì)安裝在法蘭頂部,可以精 確測(cè)量腔內(nèi)真空度。

技術(shù)參數(shù)

1 、電源: 單相 AC208V-240V (需 20A 的空氣開(kāi)關(guān))


2、真空腔體:高純石英管, 外徑 280mm ,內(nèi)徑 275mm ,高 229mm


3、加熱元件: 兩組 IR 紅外燈管, 額定功率 800W ,總功率 1600W


4、熱電偶: S 型熱電偶 2 個(gè),分別安裝于上下法蘭上


5、工作溫度:兩個(gè)加熱區(qū)域單獨(dú)工作的極限溫度≤650℃,兩加熱區(qū)域極限溫差≤350


6、加熱速率: >8/s

7、冷卻速率: >10/s600-100℃)


8、真空法蘭: 316 不銹鋼制作, 配有 1 個(gè) KF-25 接口、 2 個(gè) 1/4″軟管接頭


9、真空計(jì):數(shù)字式真空顯示計(jì)

可選配件

1 、PC 控溫軟件


2、兩路混氣系統(tǒng)


3、多路浮子混氣系統(tǒng)


4、多路質(zhì)子混氣系統(tǒng)


5、真空泵


6、水冷機(jī)




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