天津瑞利光電科技有限公司優(yōu)勢經(jīng)銷microworks X射線干涉儀Talint EDU

產(chǎn)品型號：Talint EDU

產(chǎn)品介紹

Talint EDU是X射線Talbot Lau干涉儀的一種巧妙簡化形式，包括所有必要的硬件，以正確設置和微調(diào)干涉儀，并應用相位步進程序，以獲得三種成像模式：吸收、相位對比度和暗場對比度。

硬件的設計使得，在按照我們的說明組裝（預裝）套件后，莫爾條紋將很容易在您的探測器上看到。莫爾條紋圖案的進一步微調(diào)可以通過使用G1和G2支架中的微米螺釘使光柵繞光軸進行角旋轉(zhuǎn)，以直接的方式進行。

性能特點

l 由基板定義，基板是M6的試驗板，間距為25mm

l 光柵是使用X射線LIGA技術制造的，該技術確保了高精度和高的高寬比（縱橫比）

l 通過定位銷固定；對稱設置

l 兩個光柵都可以通過調(diào)節(jié)測微螺釘繞光軸旋轉(zhuǎn)

l 包含控制器

技術參數(shù)

產(chǎn)地：德國

長度：60厘米

寬度：15厘米

高度：20厘米

光柵開放區(qū)域

G0：15毫米

G1：70毫米

G2：70毫米

干涉儀的微調(diào)：僅調(diào)整G1和G2繞光軸的旋轉(zhuǎn)角度

樣品放置：簡單的旋轉(zhuǎn)臺，可在光軸內(nèi)外擺動樣品

相位步進：閉環(huán)壓電級。30nm分辨率

邊緣能見度：通常>15%

G0和G2的占空比：0.55

G0和G2的基板：400µm石墨

G1占空比：0.5

G1基板：200µm硅

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