瑞士電鏡制樣設(shè)備磁控離子濺射鍍膜儀

緊湊型、模塊化和智能化

CCU-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的離子濺射和/或蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡(jiǎn)便。采用du特的插入式設(shè)計(jì)，通過(guò)簡(jiǎn)單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍?cè)O(shè)備。在鍍膜之前和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測(cè)裝置。

瑞士電鏡制樣設(shè)備磁控離子濺射鍍膜儀特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)
?高性能離子濺射
?du特的即插即用濺射模塊
?yi流的真空性能和快速抽真空
?結(jié)構(gòu)緊湊、可靠且易于維修
?雙位置膜厚監(jiān)控裝置，可兼容不同尺寸的樣品
?主動(dòng)冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長(zhǎng)連續(xù)運(yùn)行時(shí)間

巧妙的真空設(shè)計(jì)
CCU-010 LV精細(xì)真空鍍膜系統(tǒng)專(zhuān)為SEM和EDX的常規(guī)高質(zhì)量濺射鍍膜和鍍碳而設(shè)計(jì)，CCU-010 LV_SP-010為磁控離子濺射鍍膜儀。模塊化的設(shè)計(jì)可將低真空單元很輕松地升級(jí)為高真空單元。特別選擇和設(shè)計(jì)的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時(shí)間。兩個(gè)附加的標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭允許連接第三方設(shè)備。

濺射模塊 SP-010 & SP-011
兩種濺射模塊一旦插入CCU-010 LV鍍膜主體單元，即可使用。
SP-010和SP-011濺射模塊具有有效的主動(dòng)冷卻功能，連續(xù)噴涂時(shí)間長(zhǎng)-非常適合需要較厚膜的應(yīng)用；可選多種濺射靶材。
SP-010濺射裝置的磁控組件旨在優(yōu)化靶材使用。這使其成為電子顯微鏡中精細(xì)顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。對(duì)于極細(xì)顆粒尺寸鍍膜，推薦使用渦輪泵抽真空的CCU-010 HV鍍膜主體單元。
SP-011濺射裝置的磁控組件用于大功率濺射和寬范圍材料的鍍膜。對(duì)那些比常規(guī)EM應(yīng)用要求鍍膜速率更高、膜層要求更厚的薄膜應(yīng)用時(shí)，推薦使用該濺射頭。

等離子刻蝕單元 ET-010
在對(duì)樣品進(jìn)行鍍膜之前或鍍膜之后，可以對(duì)樣品進(jìn)行等離子刻蝕處理。使用該附件，可以選擇氬氣、其它蝕刻氣體或大氣作為處理氣體。這樣可以在鍍膜前清潔樣品，增加薄膜的附著力。也可在樣品鍍膜后進(jìn)行等離子刻蝕處理，從而對(duì)膜層表面進(jìn)行改性。

RC-010手套箱應(yīng)用的遠(yuǎn)程控制軟件
◎基于window的遠(yuǎn)程控制軟件
◎創(chuàng)建和調(diào)用配方
◎?qū)崟r(shí)圖表，包含導(dǎo)出功能（Excel、png等）
◎自動(dòng)連接到設(shè)備

可選多種樣品臺(tái)
CCU-010提供一個(gè)直徑不小于60mm的樣品臺(tái)，該樣品臺(tái)插入到高度可調(diào)且可傾斜的樣品臺(tái)支架上?？蛇x其它專(zhuān)用的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、行星臺(tái)、載玻片樣品臺(tái)等。

CCU-010 LV系列鍍膜儀版本
除了CCU-010 LV磁控離子濺射鍍膜儀之外，還可以選擇：CCU-010 LV熱蒸發(fā)鍍碳儀；CCU-010 LV離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀；CCU-010 LV手套箱專(zhuān)用鍍膜儀。所有CCU-010 LV版本均采用TFT 觸摸屏操控，配方可編程，保證結(jié)果可重復(fù)；具有斷電時(shí)系統(tǒng)自動(dòng)排氣功能，防止系統(tǒng)被前級(jí)泵油污染。