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KT-Z1650PVD 真空濺射金屬磁控鍍膜機(jī)

參考價(jià) 39800
訂貨量 ≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
  • 品牌 鄭科探
  • 型號(hào) KT-Z1650PVD
  • 產(chǎn)地 鄭州
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/4/30 14:28:43
  • 訪問(wèn)次數(shù) 1088

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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營(yíng)為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國(guó)內(nèi)大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室 及*校,科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)歡迎和信任的品牌之一

公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)社會(huì)為宗旨,積極設(shè)計(jì)開發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻(xiàn)于教育和科學(xué),經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累,擁有熱工,制造,控制相關(guān)技術(shù)10余項(xiàng),為化學(xué),物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過(guò)和院校老師 同學(xué)強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合,形成了有效的信息,技術(shù)交流平臺(tái),為科探儀器了解市場(chǎng)需求提供了強(qiáng)有力的支持!。

目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個(gè)系列幾十款產(chǎn)品,產(chǎn)品囊括實(shí)驗(yàn)電爐、CVD供氣系統(tǒng)、等離子清洗機(jī)、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。

公司與國(guó)內(nèi)高校,科研院所有多層次的合作關(guān)系,建有開放實(shí)驗(yàn)室,相關(guān)領(lǐng)域的教授、高級(jí)工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力,科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作,科探儀器時(shí)刻懷著一顆真誠(chéng)的心期待與您的合作。

 

 

 

 

 

 

 

實(shí)驗(yàn)室設(shè)備 真空設(shè)備 儀器儀表 電子元器件 五金交電實(shí)驗(yàn)室設(shè)備安裝

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,能源,電子,冶金,航天

鄭州科探儀器設(shè)備是高質(zhì)量定制物理 氣相沉積(PVD)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商,客戶服務(wù)和售后服務(wù)出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下,高度積極地開發(fā)新設(shè)計(jì)以滿足客戶的特殊要求。

鄭科探的工程團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)和制造的組件符合高質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。KT-Z1650PVD真空鍍膜機(jī)已通過(guò)分銷商銷往許多大學(xué)和研究中心,并得到了很好的參考和反饋。

儀器描述:

真空濺射金屬磁控鍍膜機(jī),能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊,全自動(dòng)控制,設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué),所得結(jié)果一致,可重復(fù)性高。

產(chǎn)品特點(diǎn):

• 彩色觸摸屏:數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速。

• 通過(guò)觸摸屏中直觀檢測(cè)數(shù)據(jù)和曲線;歷史頁(yè)面可顯示歷史涂層信息。

• 可控鍍膜速率,可得到更精細(xì)的晶粒結(jié)構(gòu)。

• 可手動(dòng)或自動(dòng),根據(jù)時(shí)間或根據(jù)厚度進(jìn)行濺射。

• 樣品臺(tái)更換簡(jiǎn)單:標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)高度可調(diào)、可傾斜、可旋轉(zhuǎn);行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)為多孔樣品帶來(lái)好的噴金效果。

真空濺射金屬磁控鍍膜機(jī)

真空濺射金屬磁控鍍膜機(jī)技術(shù)參數(shù):

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺(tái)

可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測(cè)量

皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口
















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